Energia VETERANAIl supporto in grafite per il processo PECVD è un materiale di consumo di alta qualità, specificamente progettato per il processo PECVD (deposizione chimica in fase vapore assistita da plasma). Realizzato in grafite ad alta purezza e densità, questo supporto offre un'eccellente resistenza alle alte temperature, alla corrosione, alla stabilità dimensionale e altre caratteristiche, garantendo una piattaforma stabile per il processo PECVD e assicurando uniformità e planarità nella deposizione di film sottili.
I supporti in grafite per il processo PECVD presentano le seguenti caratteristiche:
▪ Elevata purezza: contenuto di impurità estremamente basso, che evita la contaminazione della pellicola e garantisce la qualità della stessa.
▪ Alta densità: elevata densità, elevata resistenza meccanica, in grado di resistere ad ambienti PECVD ad alta temperatura e alta pressione.
▪ Buona stabilità dimensionale: minima variazione dimensionale ad alta temperatura, garantendo la stabilità del processo.
▪ Eccellente conduttività termica: trasferisce efficacemente il calore per prevenire il surriscaldamento del wafer.
▪ Elevata resistenza alla corrosione: in grado di resistere all'erosione causata da vari gas corrosivi e plasma.
▪ Servizio personalizzato: i supporti in grafite di diverse dimensioni e forme possono essere personalizzati in base alle esigenze del cliente.
Materiale in grafite di SGL:
| Parametro tipico: R6510 | |||
| Indice | Standard di prova | Valore | Unità |
| Dimensione media dei grani | ISO 13320 | 10 | μm |
| densità apparente | DIN IEC 60413/204 | 1,83 | g/cm3 |
| Porosità aperta | DIN 66133 | 10 | % |
| Pori di medie dimensioni | DIN 66133 | 1.8 | μm |
| Permeabilità | DIN 51935 | 0,06 | cm²/s |
| Durezza Rockwell HR5/100 | DIN IEC60413/303 | 90 | HR |
| resistività elettrica specifica | DIN IEC 60413/402 | 13 | μΩm |
| Forza flessionale | DIN IEC 60413/501 | 60 | MPa |
| resistenza alla compressione | DIN 51910 | 130 | MPa |
| modulo di Young | DIN 51915 | 11,5×10³ | MPa |
| Dilatazione termica (20-200℃) | DIN 51909 | 4,2 x 10-6 | K-1 |
| Conduttività termica (20℃) | DIN 51908 | 105 | Wm-1K-1 |
È specificamente progettato per la produzione di celle solari ad alta efficienza, supportando la lavorazione di wafer di grandi dimensioni G12. Il design ottimizzato del supporto aumenta significativamente la produttività, consentendo rese più elevate e costi di produzione inferiori.
| Articolo | Tipo | Porta wafer numerico |
| Barca in gres porcellanato PEVCD - Serie 156 | 156-13 barca di grefite | 144 |
| 156-19 barca in grephite | 216 | |
| 156-21 barca in grephite | 240 | |
| Barca in grafite 156-23 | 308 | |
| Barca in gres porcellanato PEVCD - Serie 125 | 125-15 barca in grephite | 196 |
| 125-19 barca in grephite | 252 | |
| Barca in grafite 125-21 | 280 |
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