VET EnergieDe PECVD-Prozess-Grafitträger ass e qualitativ héichwäertege Verbrauchsmaterial, dee fir de PECVD-Prozess (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) zougeschnidden ass. Dëse Graphitträger ass aus héichreinegem, héichdichte Graphitmaterial gemaach, mat exzellenter Héichtemperaturbeständegkeet, Korrosiounsbeständegkeet, Dimensiounsstabilitéit an aner Charakteristiken, a kann eng stabil Trägerplattform fir de PECVD-Prozess ubidden, fir d'Uniformitéit a Flaachheet vun der Dënnschichtoflagerung ze garantéieren.
Grafitträger fir de PECVD-Prozess hunn déi folgend Charakteristiken:
▪ Héich Rengheet: extrem niddregen Unreinheetsgehalt, vermeit Kontaminatioun vum Film a garantéiert d'Filqualitéit.
▪ Héich Dicht: héich Dicht, héich mechanesch Stäerkt, fäeg héijen Temperaturen an héijen Drock am PECVD-Ëmfeld auszehalen.
▪ Gud Dimensiounsstabilitéit: kleng Dimensiounsännerung bei héijer Temperatur, wat d'Prozessstabilitéit garantéiert.
▪ Excellent thermesch Konduktivitéit: effektiv Hëtztiwwerdroung fir Iwwerhëtzung vu Waferen ze vermeiden.
▪ Staark Korrosiounsbeständegkeet: fäeg der Erosioun duerch verschidde korrosiv Gaser a Plasma ze widderstoen.
▪ Personaliséierte Service: Grafitträger a verschiddene Gréissten a Formen kënnen no de Bedierfnesser vum Client personaliséiert ginn.
Grafitmaterial vun SGL:
| Typesche Parameter: R6510 | |||
| Index | Teststandard | Wäert | Eenheet |
| Duerchschnëttlech Kärgréisst | ISO 13320 | 10 | μm |
| Volumendicht | DIN IEC 60413/204 | 1,83 | g/cm²3 |
| Oppe Porositéit | DIN66133 | 10 | % |
| Mëttelgrouss Porengréisst | DIN66133 | 1.8 | μm |
| Permeabilitéit | DIN 51935 | 0,06 | cm²/s |
| Rockwell-Härkeet HR5/100 | DIN IEC60413/303 | 90 | HR |
| Spezifesch elektresch Widderstand | DIN IEC 60413/402 | 13 | μΩm |
| Biegefestigkeit | DIN IEC 60413/501 | 60 | MPa |
| Kompressiounsstäerkt | DIN 51910 | 130 | MPa |
| Young säi Modul | DIN 51915 | 11,5 × 10³ | MPa |
| Thermesch Expansioun (20-200 ℃) | DIN 51909 | 4.2X10-6 | K-1 |
| Wärmeleitfäegkeet (20℃) | DIN 51908 | 105 | Wm-1K-1 |
Et ass speziell fir d'Hierstellung vun héicheffiziente Solarzellen entwéckelt ginn, an ënnerstëtzt d'Veraarbechtung vu grousse G12-Waferen. Den optiméierten Trägerdesign erhéicht den Duerchgank däitlech, wat méi héich Rendementer a méi niddreg Produktiounskäschte erméiglecht.
| Artikel | Typ | Zuel Wafer Carrier |
| PEVCD Grephite Boot - Déi 156 Serie | 156-13 Grephitboot | 144 |
| 156-19 Grephitboot | 216 | |
| 156-21 Grephitboot | 240 | |
| 156-23 Grafitboot | 308 | |
| PEVCD Grephite Boot - Déi 125 Serie | 125-15 Grephit Boot | 196 |
| 125-19 Grephit Boot | 252 | |
| 125-21 Grafitboot | 280 |
-
Héichreinheet, héichtemperaturbeständeg Grafit...
-
Haltbar, waasserdicht a verschleißbeständeg, innovativ ...
-
Kueleelektrodestang Grafitstang ze verkafen
-
Flexibelt Grafitpabeier mat héijer Hëtzt, Grafitpabeier ...
-
Liwwerung vu Grafitprodukter Grafitblock Isostat ...
-
Benotzerdefinéiert Grafitpabeier pyrolytescht Kuelestoffblech ...

