VET EnergiaO suporte de grafite para o processo PECVD é um consumível de alta qualidade desenvolvido especificamente para o processo de deposição química de vapor assistida por plasma (PECVD). Fabricado com grafite de alta pureza e alta densidade, apresenta excelente resistência a altas temperaturas, à corrosão e estabilidade dimensional, proporcionando uma plataforma estável para o processo PECVD e garantindo a uniformidade e a planicidade da deposição de filmes finos.
Os suportes de grafite para o processo PECVD apresentam as seguintes características:
▪ Alta pureza: teor de impurezas extremamente baixo, evitando a contaminação do filme e garantindo sua qualidade.
▪ Alta densidade: alta densidade, alta resistência mecânica, capaz de suportar o ambiente PECVD de alta temperatura e alta pressão.
▪ Boa estabilidade dimensional: pequena variação dimensional em altas temperaturas, garantindo a estabilidade do processo.
▪ Excelente condutividade térmica: transfere calor de forma eficaz para evitar o superaquecimento do wafer.
▪ Forte resistência à corrosão: capaz de resistir à erosão causada por diversos gases corrosivos e plasma.
▪ Serviço personalizado: suportes de grafite de diferentes tamanhos e formatos podem ser personalizados de acordo com as necessidades do cliente.
Material de grafite da SGL:
| Parâmetro típico: R6510 | |||
| Índice | Padrão de teste | Valor | Unidade |
| Tamanho médio do grão | ISO 13320 | 10 | μm |
| densidade aparente | DIN IEC 60413/204 | 1,83 | g/cm3 |
| Porosidade aberta | DIN66133 | 10 | % |
| Tamanho de poro médio | DIN66133 | 1.8 | μm |
| Permeabilidade | DIN 51935 | 0,06 | cm²/s |
| Dureza Rockwell HR5/100 | DIN IEC60413/303 | 90 | HR |
| Resistividade elétrica específica | DIN IEC 60413/402 | 13 | μΩm |
| Resistência à flexão | DIN IEC 60413/501 | 60 | MPa |
| resistência à compressão | DIN 51910 | 130 | MPa |
| Módulo de Young | DIN 51915 | 11,5×10³ | MPa |
| Expansão térmica (20-200℃) | DIN 51909 | 4,2 x 10-6 | K-1 |
| Condutividade térmica (20℃) | DIN 51908 | 105 | Wm-1K-1 |
Foi projetado especificamente para a fabricação de células solares de alta eficiência, suportando o processamento de wafers de grande porte G12. O design otimizado da estrutura de suporte aumenta significativamente a produtividade, permitindo maiores taxas de rendimento e menores custos de produção.
| Item | Tipo | Número de wafers de suporte |
| Barco PEVCD Grephite - Série 156 | 156-13 barco de grefita | 144 |
| 156-19 barco de grefita | 216 | |
| 156-21 barco de grefita | 240 | |
| Barco de grafite 156-23 | 308 | |
| Barco PEVCD Grephite - Série 125 | 125-15 barco de grefita | 196 |
| 125-19 barco de grefita | 252 | |
| 125-21 barco de grife | 280 |
-
Bucha de rolamento de grafite para bomba elétrica resistente ao calor...
-
Anel de vedação de grafite resistente a altas temperaturas...
-
Aquecedor de grafite de fábrica para forno a vácuo Sing...
-
Feltro de fibra de carbono, compósitos C/C
-
Nova ficha técnica de papel grafite para pressão isostática...
-
Anel de grafite personalizado para pressão isostática...

