Energia VETO suporte de grafite para o processo PECVD é um consumível de alta qualidade desenvolvido especialmente para o processo PECVD (deposição química de vapor aprimorada por plasma). Este suporte de grafite é feito de material de grafite de alta pureza e alta densidade, com excelente resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão, estabilidade dimensional e outras características, podendo fornecer uma plataforma de suporte estável para o processo PECVD, garantindo a uniformidade e a planura da deposição de filmes finos.
Os portadores de grafite para o processo PECVD apresentam as seguintes características:
▪ Alta pureza: teor de impurezas extremamente baixo, evitando contaminação do filme e garantindo a qualidade do filme.
▪ Alta densidade: alta densidade, alta resistência mecânica, capaz de suportar altas temperaturas e ambientes de alta pressão PECVD.
▪ Boa estabilidade dimensional: pequena alteração dimensional em alta temperatura, garantindo estabilidade do processo.
▪ Excelente condutividade térmica: transfere calor de forma eficaz para evitar o superaquecimento do wafer.
▪ Forte resistência à corrosão: capaz de resistir à erosão por vários gases corrosivos e plasma.
▪ Serviço personalizado: transportadores de grafite de diferentes tamanhos e formatos podem ser personalizados de acordo com as necessidades do cliente.
Material de grafite da SGL:
| Parâmetro típico: R6510 | |||
| Índice | Padrão de teste | Valor | Unidade |
| Tamanho médio do grão | ISO 13320 | 10 | μm |
| Densidade aparente | DIN IEC 60413/204 | 1,83 | g/cm3 |
| Porosidade aberta | DIN66133 | 10 | % |
| Poros de tamanho médio | DIN66133 | 1.8 | μm |
| Permeabilidade | DIN 51935 | 0,06 | cm²/s |
| Dureza Rockwell HR5/100 | DIN IEC60413/303 | 90 | HR |
| Resistividade elétrica específica | DIN IEC 60413/402 | 13 | μΩm |
| Resistência à flexão | DIN IEC 60413/501 | 60 | MPa |
| Resistência à compressão | DIN 51910 | 130 | MPa |
| Módulo de Young | DIN 51915 | 11,5×10³ | MPa |
| Expansão térmica (20-200℃) | DIN 51909 | 4,2X10-6 | K-1 |
| Condutividade térmica (20℃) | DIN 51908 | 105 | Wm-1K-1 |
Ele foi projetado especificamente para a fabricação de células solares de alta eficiência, suportando o processamento de wafers G12 de grande porte. O design otimizado do portador aumenta significativamente a produtividade, permitindo maiores taxas de rendimento e menores custos de produção.
| Item | Tipo | Número de portador de wafer |
| Barco PEVCD Grephite - Série 156 | 156-13 barco de grefita | 144 |
| 156-19 barco de grefita | 216 | |
| 156-21 barco de grefita | 240 | |
| 156-23 barco de grafite | 308 | |
| Barco PEVCD Grephite - Série 125 | barco de grefita 125-15 | 196 |
| barco de grefita 125-19 | 252 | |
| barco de grife 125-21 | 280 |
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