Qual é o mecanismo de planarização do CMP?

O processo Dual-Damascene é uma tecnologia utilizada para fabricar interconexões metálicas em circuitos integrados. Trata-se de um desenvolvimento adicional do processo Damasco. Ao formar furos passantes e ranhuras simultaneamente na mesma etapa do processo e preenchê-los com metal, realiza-se a fabricação integrada de interconexões metálicas.

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Por que se chama Damasco?


A cidade de Damasco é a capital da Síria, e as espadas de Damasco são famosas por seu fio afiado e textura requintada. Um tipo de processo de incrustação é necessário: primeiro, o padrão desejado é gravado na superfície do aço de Damasco, e os materiais previamente preparados são incrustados firmemente nas ranhuras gravadas. Após a conclusão da incrustação, a superfície pode ficar um pouco irregular. O artesão irá polir cuidadosamente para garantir a suavidade geral. E este processo é o protótipo do processo de dupla camada de aço de Damasco. Primeiro, ranhuras ou orifícios são gravados na camada dielétrica, e então o metal é preenchido neles. Após o preenchimento, o excesso de metal é removido por prensagem a frio.

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As principais etapas do processo de damasceno duplo incluem:

 

▪ Deposição da camada dielétrica:


Depositar uma camada de material dielétrico, como dióxido de silício (SiO2), sobre o semicondutor.wafer.

 

▪ Fotolitografia para definir o padrão:


Utilize a fotolitografia para definir o padrão de vias e sulcos na camada dielétrica.

 

Gravura:


Transferir o padrão de vias e sulcos para a camada dielétrica por meio de um processo de corrosão seca ou úmida.

 

▪ Deposição de metal:


Depositar metal, como cobre (Cu) ou alumínio (Al), em vias e trincheiras para formar interconexões metálicas.

 

▪ Polimento químico-mecânico:


Polimento químico-mecânico da superfície metálica para remover o excesso de metal e aplainar a superfície.

 

 

Comparado ao processo tradicional de fabricação de interconexões metálicas, o processo de dupla damasquinagem apresenta as seguintes vantagens:

▪Etapas simplificadas do processo:Ao formar vias e trincheiras simultaneamente na mesma etapa do processo, as etapas do processo e o tempo de fabricação são reduzidos.

▪ Melhoria da eficiência de fabricação:Devido à redução das etapas do processo, o processo de dupla damascena pode melhorar a eficiência da fabricação e reduzir os custos de produção.

▪Melhorar o desempenho das interconexões metálicas:O processo de dupla damascena permite obter interconexões metálicas mais estreitas, melhorando assim a integração e o desempenho dos circuitos.

▪Reduzir a capacitância e a resistência parasitas:Ao utilizar materiais dielétricos de baixa constante dielétrica (low-k) e otimizar a estrutura das interconexões metálicas, a capacitância e a resistência parasitas podem ser reduzidas, melhorando a velocidade e o consumo de energia dos circuitos.


Data da publicação: 25/11/2024
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