Qual è il meccanismo di planarizzazione del CMP?

La doppia damascenatura è una tecnologia di processo utilizzata per la produzione di interconnessioni metalliche nei circuiti integrati. Rappresenta un'evoluzione del processo di Damasco. Grazie alla formazione simultanea di fori passanti e scanalature nello stesso passaggio del processo e al loro riempimento con metallo, si realizza la produzione integrata di interconnessioni metalliche.

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Perché si chiama Damasco?


La città di Damasco è la capitale della Siria e le spade di Damasco sono famose per la loro affilatura e la loro squisita fattura. È necessario un particolare processo di intarsio: innanzitutto, il motivo desiderato viene inciso sulla superficie dell'acciaio di Damasco e i materiali pre-preparati vengono intarsiati saldamente nelle scanalature incise. Dopo aver completato l'intarsio, la superficie potrebbe risultare leggermente irregolare. L'artigiano la luciderà accuratamente per garantire la levigatezza complessiva. Questo processo è il prototipo del processo di Damasco a doppia lavorazione. In primo luogo, scanalature o fori vengono incisi nello strato dielettrico e poi il metallo viene riempito al loro interno. Dopo il riempimento, il metallo in eccesso viene rimosso mediante lucidatura.

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Le fasi principali del processo di damasceno duale includono:

 

▪ Deposizione dello strato dielettrico:


Depositare uno strato di materiale dielettrico, come il biossido di silicio (SiO2), sul semiconduttorewafer.

 

▪ Fotolitografia per definire il modello:


Utilizzare la fotolitografia per definire il modello di fori e trincee sullo strato dielettrico.

 

Incisione:


Trasferire il disegno di fori e trincee allo strato dielettrico tramite un processo di incisione a secco o a umido.

 

▪ Deposizione di metallo:


Depositare metallo, come rame (Cu) o alluminio (Al), in fori e trincee per formare interconnessioni metalliche.

 

▪ Lucidatura chimico-meccanica:


Lucidatura chimico-meccanica della superficie metallica per rimuovere il metallo in eccesso e livellare la superficie.

 

 

Rispetto al tradizionale processo di produzione di interconnessioni metalliche, il processo di doppia damascenatura presenta i seguenti vantaggi:

▪Fasi semplificate del processo:Grazie alla formazione simultanea di fori passanti e canaline nella stessa fase del processo, si riducono le fasi del processo e i tempi di produzione.

▪Miglioramento dell'efficienza produttiva:Grazie alla riduzione delle fasi di processo, il processo di damascenatura doppia può migliorare l'efficienza produttiva e ridurre i costi di produzione.

▪Migliorare le prestazioni delle interconnessioni metalliche:Il processo di doppia damascenatura consente di ottenere interconnessioni metalliche più strette, migliorando così l'integrazione e le prestazioni dei circuiti.

▪Ridurre la capacità e la resistenza parassite:Grazie all'utilizzo di materiali dielettrici a bassa costante dielettrica (low-k) e all'ottimizzazione della struttura delle interconnessioni metalliche, è possibile ridurre la capacità e la resistenza parassite, migliorando così la velocità e il consumo energetico dei circuiti.


Data di pubblicazione: 25 novembre 2024
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