Porta-oblies de substrat de grafit per a PECVD

Suport de làmines de substrat de grafit per a PECVD Imatge destacada

Descripció breu:

El suport de substrat de grafit de VET Energy està dissenyat per mantenir l'alineació i l'estabilitat de les oblies durant tot el procés PECVD, evitant la contaminació i minimitzant el risc de danys. El suport de substrat de grafit proporciona una plataforma segura i uniforme, que garanteix que les oblies estiguin exposades uniformement al plasma per a una deposició consistent i d'alta qualitat. Amb la seva alta conductivitat tèrmica i la seva excepcional resistència, aquest suport ajuda a millorar l'eficiència general del procés i el rendiment del producte.

Envia'ns un correu electrònic Descarrega com a PDF

Detall del producte

Etiquetes de producte

El suport per a substrat de grafit VET Energy és un suport de precisió dissenyat per al procés PECVD (deposició química de vapor millorada per plasma). Aquest suport de substrat de grafit d'alta qualitat està fet de material de grafit d'alta puresa i alta densitat, amb una excel·lent resistència a altes temperatures, resistència a la corrosió, estabilitat dimensional i altres característiques. Pot proporcionar una plataforma de suport estable per al procés PECVD i garantir la uniformitat i la planitud de la deposició de la pel·lícula.

La taula de suport per a oblies de grafit del procés PECVD de VET Energy té les següents característiques:

▪Alta puresa:Contingut d'impureses extremadament baix, evita la contaminació de la pel·lícula, garanteix la qualitat de la pel·lícula.

▪Alta densitat:alta densitat, alta resistència mecànica, pot suportar altes temperatures i altes pressions en un entorn PECVD.

▪Bona estabilitat dimensional:petits canvis dimensionals a alta temperatura, cosa que garanteix l'estabilitat del procés.

▪Excel·lent conductivitat tèrmica:transfereix eficaçment la calor per evitar el sobreescalfament de la làmina.

▪Forta resistència a la corrosió:pot resistir l'erosió per diversos gasos corrosius i plasma.

▪Servei personalitzat:Les taules de suport de grafit de diferents mides i formes es poden personalitzar segons les necessitats del client.

Avantatges del producte

▪Millorar la qualitat de la pel·lícula:Assegurar una deposició uniforme de la pel·lícula i millorar la seva qualitat.

▪Allargar la vida útil de l'equip:Excel·lent resistència a la corrosió, allarga la vida útil dels equips PECVD.

▪Reduir els costos de producció:Les safates de grafit d'alta qualitat poden reduir la taxa de ferralla i reduir els costos de producció.

Material de grafit de SGL:

Paràmetre típic: R6510
Índex	Estàndard de prova	Valor	Unitat
Mida mitjana del gra	ISO 13320	10	μm
Densitat aparent	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Porositat oberta	DIN66133	10	%
Mida mitjana dels porus	DIN66133	1.8	μm
Permeabilitat	DIN 51935	0,06	cm²/s
Duresa Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Resistivitat elèctrica específica	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Resistència a la flexió	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Resistència a la compressió	DIN 51910	130	MPa
Mòdul de Young	DIN 51915	11,5 × 10³	MPa
Expansió tèrmica (20-200 ℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
Conductivitat tèrmica (20 ℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Està dissenyat específicament per a la fabricació de cèl·lules solars d'alta eficiència, i admet el processament d'oblies de gran mida G12. El disseny optimitzat del portador augmenta significativament el rendiment, permetent taxes de rendiment més elevades i costos de producció més baixos.

Ítem	Tipus	Portador de l'oblea número
Vaixell de grefita PEVCD - La sèrie 156	156-13 vaixell de grefit	144
	156-19 vaixell de grefit	216
	156-21 vaixell de grefit	240
	156-23 vaixell de grafit	308
Vaixell PEVCD Grephite - La sèrie 125	Vaixell de grefit 125-15	196
	Vaixell de grefit 125-19	252
	Vaixell de grafit 125-21	280