Supporto per wafer di substrato di grafite per PECVD

Breve descrizione:

Il supporto per substrati in grafite di VET Energy è progettato per mantenere l'allineamento e la stabilità dei wafer durante l'intero processo PECVD, prevenendo la contaminazione e riducendo al minimo il rischio di danni. Il supporto per wafer in grafite fornisce una piattaforma sicura e uniforme, garantendo che i wafer siano esposti in modo omogeneo al plasma per una deposizione costante e di alta qualità. Grazie all'elevata conduttività termica e all'eccezionale resistenza, questo supporto contribuisce a migliorare l'efficienza complessiva del processo e le prestazioni del prodotto.

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Dettagli del prodotto

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Il supporto per wafer in grafite VET Energy è un supporto di precisione progettato per il processo PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Questo supporto per substrati in grafite di alta qualità è realizzato in grafite ad alta purezza e densità, con eccellente resistenza alle alte temperature, alla corrosione, stabilità dimensionale e altre caratteristiche. È in grado di fornire una piattaforma di supporto stabile per il processo PECVD e garantire l'uniformità e la planarità della deposizione del film.

Il supporto per wafer di grafite del processo PECVD di VET Energy presenta le seguenti caratteristiche:

▪Elevata purezza:Contenuto di impurità estremamente basso, evita la contaminazione della pellicola, garantisce la qualità della pellicola.

▪Alta densità:Elevata densità, elevata resistenza meccanica, in grado di resistere ad ambienti PECVD ad alta temperatura e alta pressione.

▪Buona stabilità dimensionale:piccole variazioni dimensionali ad alta temperatura, garantendo la stabilità del processo.

▪Eccellente conduttività termica:trasferire efficacemente il calore per prevenire il surriscaldamento del wafer.

▪Elevata resistenza alla corrosione:Può resistere all'erosione causata da vari gas corrosivi e dal plasma.

▪Servizio personalizzato:È possibile personalizzare i tavoli di supporto in grafite di diverse dimensioni e forme in base alle esigenze del cliente.

Vantaggi del prodotto

▪Migliorare la qualità del film:Garantire una deposizione uniforme della pellicola e migliorarne la qualità.

▪Prolungare la durata delle apparecchiature:Eccellente resistenza alla corrosione, che prolunga la durata utile delle apparecchiature PECVD.

▪Ridurre i costi di produzione:I vassoi in grafite di alta qualità possono ridurre il tasso di scarto e i costi di produzione.

Materiale in grafite di SGL:

Parametro tipico: R6510
Indice	Standard di prova	Valore	Unità
Dimensione media dei grani	ISO 13320	10	μm
densità apparente	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Porosità aperta	DIN 66133	10	%
Pori di medie dimensioni	DIN 66133	1.8	μm
Permeabilità	DIN 51935	0,06	cm²/s
Durezza Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
resistività elettrica specifica	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Forza flessionale	DIN IEC 60413/501	60	MPa
resistenza alla compressione	DIN 51910	130	MPa
modulo di Young	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Dilatazione termica (20-200℃)	DIN 51909	4,2 x 10^-6	K^-1
Conduttività termica (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

È specificamente progettato per la produzione di celle solari ad alta efficienza, supportando la lavorazione di wafer di grandi dimensioni G12. Il design ottimizzato del supporto aumenta significativamente la produttività, consentendo rese più elevate e costi di produzione inferiori.

Articolo	Tipo	Porta wafer numerico
Barca in gres porcellanato PEVCD - Serie 156	156-13 barca di grefite	144
	156-19 barca in grephite	216
	156-21 barca in grephite	240
	Barca in grafite 156-23	308
Barca in gres porcellanato PEVCD - Serie 125	125-15 barca in grephite	196
	125-19 barca in grephite	252
	Barca in grafite 125-21	280