Supporto per wafer in substrato di grafite per PECVD

Supporto per wafer con substrato in grafite per PECVD Immagine in evidenza

Breve descrizione:

Il supporto per substrato in grafite di VET Energy è progettato per mantenere l'allineamento e la stabilità dei wafer durante l'intero processo PECVD, prevenendo la contaminazione e riducendo al minimo il rischio di danni. Il supporto per wafer in grafite offre una piattaforma sicura e uniforme, garantendo che i wafer siano esposti in modo uniforme al plasma per una deposizione uniforme e di alta qualità. Grazie all'elevata conduttività termica e all'eccezionale resistenza, questo supporto contribuisce a migliorare l'efficienza complessiva del processo e le prestazioni del prodotto.

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Dettagli del prodotto

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Il supporto per wafer in grafite VET Energy è un supporto di precisione progettato per il processo PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Questo supporto per wafer in grafite di alta qualità è realizzato in grafite ad alta purezza e densità, con eccellente resistenza alle alte temperature, alla corrosione, stabilità dimensionale e altre caratteristiche. Fornisce una piattaforma di supporto stabile per il processo PECVD e garantisce l'uniformità e la planarità della deposizione del film.

Il tavolo di supporto per wafer in grafite di processo PECVD di VET Energy presenta le seguenti caratteristiche:

▪Elevata purezza:contenuto di impurità estremamente basso, evita la contaminazione della pellicola, garantisce la qualità della pellicola.

▪Alta densità:elevata densità, elevata resistenza meccanica, può sopportare alte temperature e alte pressioni in ambienti PECVD.

▪Buona stabilità dimensionale:piccole variazioni dimensionali ad alta temperatura, garantendo la stabilità del processo.

▪Ottima conduttività termica:trasferire efficacemente il calore per evitare il surriscaldamento del wafer.

▪Elevata resistenza alla corrosione:può resistere all'erosione causata da vari gas corrosivi e plasma.

▪Servizio personalizzato:tavoli di supporto in grafite di diverse dimensioni e forme possono essere personalizzati in base alle esigenze del cliente.

Vantaggi del prodotto

▪Migliorare la qualità della pellicola:Garantisce una deposizione uniforme della pellicola e ne migliora la qualità.

▪Prolunga la durata delle apparecchiature:Eccellente resistenza alla corrosione, prolunga la durata utile delle apparecchiature PECVD.

▪Ridurre i costi di produzione:I vassoi in grafite di alta qualità possono ridurre il tasso di scarti e i costi di produzione.

Materiale in grafite di SGL:

Parametro tipico: R6510
Indice	Standard di prova	Valore	Unità
Granulometria media	Norma ISO 13320	10	micron
Densità apparente	Norma DIN IEC 60413/204	1.83	g/cm³
porosità aperta	DIN66133	10	%
Pori di media grandezza	DIN66133	1.8	micron
Permeabilità	DIN 51935	0,06	cm²/s
Durezza Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Resistività elettrica specifica	Norma DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Resistenza alla flessione	Norma DIN IEC 60413/501	60	MPa
Resistenza alla compressione	DIN 51910	130	MPa
Modulo di Young	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Espansione termica (20-200℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
Conduttività termica (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

È specificamente progettato per la produzione di celle solari ad alta efficienza, supportando la lavorazione di wafer di grandi dimensioni G12. Il design ottimizzato del supporto aumenta significativamente la produttività, consentendo rendimenti più elevati e costi di produzione inferiori.

Articolo	Tipo	Numero di wafer portante
Barca Grephite PEVCD - La serie 156	156-13 barca di grefite	144
	156-19 barca di grefite	216
	156-21 barca di grefite	240
	156-23 barca in grafite	308
Barca Grephite PEVCD - La serie 125	Barca grefite 125-15	196
	Barca grefita 125-19	252
	Barca in carbonio 125-21	280