Suporte de wafer de substrato de grafite para PECVD

Descrição curta:

O Suporte de Substrato de Grafite da VET Energy foi projetado para manter o alinhamento e a estabilidade do wafer durante todo o processo de PECVD, prevenindo contaminação e minimizando o risco de danos. O Suporte de Wafer de Grafite proporciona uma plataforma segura e uniforme, garantindo que os wafers sejam expostos uniformemente ao plasma para uma deposição consistente e de alta qualidade. Com sua alta condutividade térmica e resistência excepcional, este suporte ajuda a melhorar a eficiência geral do processo e o desempenho do produto.

Envie um e-mail para nós Baixar como PDF

Detalhes do produto

Etiquetas de produtos

O Suporte para Wafer de Substrato de Grafite VET Energy é um suporte de precisão projetado para o processo PECVD (Deposição Química de Vapor Aprimorada por Plasma). Este Suporte para Substrato de Grafite de alta qualidade é feito de grafite de alta pureza e alta densidade, com excelente resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão, estabilidade dimensional e outras características. Ele pode fornecer uma plataforma de suporte estável para o processo PECVD e garantir a uniformidade e a planura da deposição do filme.

A mesa de suporte para wafers de grafite do processo PECVD da VET Energy possui as seguintes características:

▪Alta pureza:teor de impurezas extremamente baixo, evita contaminação do filme, garante a qualidade do filme.

▪Alta densidade:alta densidade, alta resistência mecânica, pode suportar altas temperaturas e ambientes de alta pressão PECVD.

▪Boa estabilidade dimensional:pequena alteração dimensional em alta temperatura, garantindo estabilidade do processo.

▪Excelente condutividade térmica:transferir calor de forma eficaz para evitar o superaquecimento do wafer.

▪Forte resistência à corrosão:pode resistir à erosão por vários gases corrosivos e plasma.

▪Atendimento personalizado:mesas de suporte de grafite de diferentes tamanhos e formatos podem ser personalizadas de acordo com as necessidades do cliente.

Vantagens do produto

▪Melhore a qualidade do filme:Garanta a deposição uniforme do filme e melhore a qualidade do filme.

▪Prolongue a vida útil do equipamento:Excelente resistência à corrosão, prolonga a vida útil do equipamento PECVD.

▪Reduza os custos de produção:Bandejas de grafite de alta qualidade podem reduzir a taxa de refugo e diminuir os custos de produção.

Material de grafite da SGL:

Parâmetro típico: R6510
Índice	Padrão de teste	Valor	Unidade
Tamanho médio do grão	ISO 13320	10	μm
Densidade aparente	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Porosidade aberta	DIN66133	10	%
Poros de tamanho médio	DIN66133	1.8	μm
Permeabilidade	DIN 51935	0,06	cm²/s
Dureza Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Resistividade elétrica específica	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Resistência à flexão	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Resistência à compressão	DIN 51910	130	MPa
Módulo de Young	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Expansão térmica (20-200℃)	DIN 51909	4,2X10^-6	K^-1
Condutividade térmica (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Ele foi projetado especificamente para a fabricação de células solares de alta eficiência, suportando o processamento de wafers G12 de grande porte. O design otimizado do portador aumenta significativamente a produtividade, permitindo maiores taxas de rendimento e menores custos de produção.

Item	Tipo	Número de portador de wafer
Barco PEVCD Grephite - Série 156	156-13 barco de grefita	144
	156-19 barco de grefita	216
	156-21 barco de grefita	240
	156-23 barco de grafite	308
Barco PEVCD Grephite - Série 125	barco de grefita 125-15	196
	barco de grefita 125-19	252
	barco de grife 125-21	280