Suporte para wafer de substrato de grafite para PECVD

Descrição resumida:

O suporte de substrato de grafite da VET Energy foi projetado para manter o alinhamento e a estabilidade do wafer durante todo o processo PECVD, prevenindo a contaminação e minimizando o risco de danos. O suporte de wafer de grafite oferece uma plataforma segura e uniforme, garantindo que os wafers sejam expostos uniformemente ao plasma para uma deposição consistente e de alta qualidade. Com sua alta condutividade térmica e resistência excepcional, este suporte ajuda a melhorar a eficiência geral do processo e o desempenho do produto.

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Detalhes do produto

Etiquetas do produto

O suporte para substrato de grafite da VET Energy é um dispositivo de precisão projetado para o processo PECVD (Deposição Química de Vapor Assistida por Plasma). Este suporte de alta qualidade é feito de grafite de alta pureza e densidade, apresentando excelente resistência a altas temperaturas, corrosão e estabilidade dimensional. Ele proporciona uma plataforma de suporte estável para o processo PECVD, garantindo a uniformidade e a planicidade da deposição do filme.

A mesa de suporte para wafers de grafite do processo PECVD da VET Energy possui as seguintes características:

▪Alta pureza:Teor de impurezas extremamente baixo, evita a contaminação do filme e garante a sua qualidade.

▪Alta densidade:Alta densidade, alta resistência mecânica, capaz de suportar ambientes PECVD de alta temperatura e alta pressão.

▪Boa estabilidade dimensional:Pequena variação dimensional em altas temperaturas, garantindo a estabilidade do processo.

▪Excelente condutividade térmica:Transferir calor de forma eficaz para evitar o sobreaquecimento do wafer.

▪Alta resistência à corrosão:Pode resistir à erosão causada por diversos gases corrosivos e plasma.

▪Serviço personalizado:Mesas de apoio em grafite de diferentes tamanhos e formatos podem ser personalizadas de acordo com as necessidades do cliente.

Vantagens do produto

▪Melhorar a qualidade do filme:Garantir a deposição uniforme da película e melhorar a sua qualidade.

▪Prolongue a vida útil do equipamento:Excelente resistência à corrosão, prolongando a vida útil dos equipamentos PECVD.

▪Reduzir os custos de produção:Bandejas de grafite de alta qualidade podem reduzir o índice de refugo e os custos de produção.

Material de grafite da SGL:

Parâmetro típico: R6510
Índice	Padrão de teste	Valor	Unidade
Tamanho médio do grão	ISO 13320	10	μm
densidade aparente	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Porosidade aberta	DIN66133	10	%
Tamanho de poro médio	DIN66133	1.8	μm
Permeabilidade	DIN 51935	0,06	cm²/s
Dureza Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Resistividade elétrica específica	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Resistência à flexão	DIN IEC 60413/501	60	MPa
resistência à compressão	DIN 51910	130	MPa
Módulo de Young	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Expansão térmica (20-200℃)	DIN 51909	4,2 x 10^-6	K^-1
Condutividade térmica (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Foi projetado especificamente para a fabricação de células solares de alta eficiência, suportando o processamento de wafers de grande porte G12. O design otimizado da estrutura de suporte aumenta significativamente a produtividade, permitindo maiores taxas de rendimento e menores custos de produção.

Item	Tipo	Número de wafers de suporte
Barco PEVCD Grephite - Série 156	156-13 barco de grefita	144
	156-19 barco de grefita	216
	156-21 barco de grefita	240
	Barco de grafite 156-23	308
Barco PEVCD Grephite - Série 125	125-15 barco de grefita	196
	125-19 barco de grefita	252
	125-21 barco de grife	280