Grafit-Substrat-Waferhalter fir PECVD

Kuerz Beschreiwung:

De Graphit-Substrathalter vu VET Energy ass entwéckelt fir d'Ausrichtung an d'Stabilitéit vun de Waferen am ganze PECVD-Prozess ze garantéieren, Kontaminatioun ze vermeiden an de Risiko vu Schued ze minimiséieren. De Graphit-Waferhalter bitt eng sécher, gläichméisseg Plattform, déi garantéiert, datt d'Waferen dem Plasma gläichméisseg ausgesat sinn, fir eng konsequent an héichqualitativ Oflagerung. Mat senger héijer Wärmeleitfäegkeet an aussergewéinlecher Stäerkt hëlleft dësen Halter d'Gesamtprozesseffizienz an d'Produktleistung ze verbesseren.

Schéckt eis eng E-Mail Als PDF eroflueden

Produktdetailer

Produkt Tags

De VET Energy Graphit-Substrat-Waferhalter ass e Präzisiounsträger, dee fir de PECVD-Prozess (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) entwéckelt gouf. Dësen héichqualitative Graphit-Substrathalter ass aus héichreinem, héichdichtem Graphitmaterial gemaach, mat exzellenter Héichtemperaturbeständegkeet, Korrosiounsbeständegkeet, Dimensiounsstabilitéit an aner Charakteristiken. E kann eng stabil Ënnerstëtzungsplattform fir de PECVD-Prozess ubidden an d'Uniformitéit an d'Flaachheet vun der Filmoflagerung garantéieren.

Den VET Energy PECVD Prozess-Graphit-Wafer-Supportdësch huet déi folgend Charakteristiken:

▪Héich Rengheet:extrem niddregen Ongereinheetsgehalt, vermeit Kontaminatioun vum Film, garantéiert d'Filqualitéit.

▪Héich Dicht:héich Dicht, héich mechanesch Stäerkt, kann héijer Temperatur an héijem Drock PECVD Ëmwelt standhalen.

▪Gud Dimensiounsstabilitéit:kleng Dimensiounsännerung bei héijer Temperatur, wat d'Prozessstabilitéit garantéiert.

▪Excellent thermesch Konduktivitéit:effektiv Hëtzt iwwerdroen, fir Iwwerhëtzung vun de Waferen ze vermeiden.

▪Staark Korrosiounsbeständegkeet:kann der Erosioun duerch verschidde korrosiv Gaser a Plasma widderstoen.

▪Personaliséierte Service:Grafit-Support-Dëscher a verschiddene Gréissten a Formen kënnen no de Bedierfnesser vum Client personaliséiert ginn.

Produktvirdeeler

▪Verbessert d'Filmqualitéit:Sécherstellen vun enger eenheetlecher Filmoflagerung a Verbesserung vun der Filmqualitéit.

▪Verlängeren d'Liewensdauer vun der Ausrüstung:Excellent Korrosiounsbeständegkeet, verlängert d'Liewensdauer vun der PECVD-Ausrüstung.

▪Produktiounskäschte reduzéieren:Héichqualitativ Graphittableaue kënnen d'Schrottquote reduzéieren an d'Produktiounskäschte senken.

Grafitmaterial vun SGL:

Typesche Parameter: R6510
Index	Teststandard	Wäert	Eenheet
Duerchschnëttlech Kärgréisst	ISO 13320	10	μm
Volumendicht	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm²³
Oppe Porositéit	DIN66133	10	%
Mëttelgrouss Porengréisst	DIN66133	1.8	μm
Permeabilitéit	DIN 51935	0,06	cm²/s
Rockwell-Härkeet HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Spezifesch elektresch Widderstand	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Biegefestigkeit	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Kompressiounsstäerkt	DIN 51910	130	MPa
Young säi Modul	DIN 51915	11,5 × 10³	MPa
Thermesch Expansioun (20-200 ℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
Wärmeleitfäegkeet (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Et ass speziell fir d'Hierstellung vun héicheffiziente Solarzellen entwéckelt ginn, an ënnerstëtzt d'Veraarbechtung vu grousse G12-Waferen. Den optiméierten Trägerdesign erhéicht den Duerchgank däitlech, wat méi héich Rendementer a méi niddreg Produktiounskäschte erméiglecht.

Artikel	Typ	Zuel Wafer Carrier
PEVCD Grephite Boot - Déi 156 Serie	156-13 Grephitboot	144
	156-19 Grephitboot	216
	156-21 Grephitboot	240
	156-23 Grafitboot	308
PEVCD Grephite Boot - Déi 125 Serie	125-15 Grephit Boot	196
	125-19 Grephit Boot	252
	125-21 Grafitboot	280