გრაფიტის სუბსტრატის ვაფლის დამჭერი PECVD-სთვის

მოკლე აღწერა:

VET Energy-ის გრაფიტის სუბსტრატის დამჭერი შექმნილია ისე, რომ შეინარჩუნოს ვაფლების განლაგება და სტაბილურობა მთელი PECVD პროცესის განმავლობაში, თავიდან აიცილოს დაბინძურება და მინიმუმამდე დაიყვანოს დაზიანების რისკი. გრაფიტის ვაფლის დამჭერი უზრუნველყოფს უსაფრთხო, თანაბარ პლატფორმას, რაც უზრუნველყოფს ვაფლების თანაბრად ზემოქმედებას პლაზმაზე თანმიმდევრული და მაღალი ხარისხის დეპონირებისთვის. მაღალი თბოგამტარობისა და განსაკუთრებული სიმტკიცის წყალობით, ეს დამჭერი ხელს უწყობს პროცესის საერთო ეფექტურობისა და პროდუქტის მუშაობის გაუმჯობესებას.

გამოგვიგზავნეთ ელ.წერილი ჩამოტვირთეთ PDF ფორმატში

პროდუქტის დეტალები

პროდუქტის ტეგები

VET Energy-ის გრაფიტის სუბსტრატის ვაფლის დამჭერი არის ზუსტი მატარებელი, რომელიც შექმნილია PECVD (პლაზმით გაძლიერებული ქიმიური ორთქლის დეპონირების) პროცესისთვის. ეს მაღალი ხარისხის გრაფიტის სუბსტრატის დამჭერი დამზადებულია მაღალი სისუფთავის, მაღალი სიმკვრივის გრაფიტის მასალისგან, გამოირჩევა შესანიშნავი მაღალი ტემპერატურისადმი გამძლეობით, კოროზიისადმი მდგრადობით, განზომილებიანი სტაბილურობით და სხვა მახასიათებლებით. მას შეუძლია უზრუნველყოს სტაბილური საყრდენი პლატფორმა PECVD პროცესისთვის და უზრუნველყოს ფირის დეპონირების ერთგვაროვნება და სიბრტყე.

VET Energy PECVD პროცესის გრაფიტის ვაფლის საყრდენი მაგიდას აქვს შემდეგი მახასიათებლები:

▪მაღალი სისუფთავე:უკიდურესად დაბალი მინარევების შემცველობა, ფირის დაბინძურების თავიდან აცილება, ფირის ხარისხის უზრუნველყოფა.

▪მაღალი სიმკვრივე:მაღალი სიმკვრივე, მაღალი მექანიკური სიმტკიცე, უძლებს მაღალ ტემპერატურას და მაღალი წნევის PECVD გარემოს.

▪კარგი განზომილებიანი სტაბილურობა:მცირე განზომილებიანი ცვლილება მაღალ ტემპერატურაზე, რაც უზრუნველყოფს პროცესის სტაბილურობას.

▪შესანიშნავი თბოგამტარობა:ეფექტურად გადასცემს სითბოს ვაფლის გადახურების თავიდან ასაცილებლად.

▪ძლიერი კოროზიის წინააღმდეგობა:შეუძლია წინააღმდეგობა გაუწიოს სხვადასხვა კოროზიული აირებისა და პლაზმური ეროზიას.

▪მორგებული მომსახურება:სხვადასხვა ზომისა და ფორმის გრაფიტის საყრდენი მაგიდების მორგება შესაძლებელია მომხმარებლის საჭიროებების შესაბამისად.

პროდუქტის უპირატესობები

▪ფილმის ხარისხის გაუმჯობესება:უზრუნველყოს ფირის ერთგვაროვანი დატანა და გააუმჯობესოს ფირის ხარისხი.

▪აღჭურვილობის სიცოცხლის გახანგრძლივება:შესანიშნავი კოროზიის წინააღმდეგობა, ახანგრძლივებს PECVD აღჭურვილობის მომსახურების ვადას.

▪შეამცირეთ წარმოების ხარჯები:მაღალი ხარისხის გრაფიტის უჯრებს შეუძლია შეამციროს ჯართის მაჩვენებელი და წარმოების ხარჯები.

SGL-ის გრაფიტის მასალა:

ტიპიური პარამეტრი: R6510
ინდექსი	ტესტის სტანდარტი	ღირებულება	ერთეული
საშუალო მარცვლის ზომა	ISO 13320	10	მკმ
მოცულობითი სიმკვრივე	DIN IEC 60413/204	1.83	გ/სმ³
ღია ფორიანობა	DIN66133	10	%
საშუალო ფორების ზომა	DIN66133	1.8	მკმ
გამტარობა	DIN 51935	0.06	სმ²/წმ
როკველის სიმტკიცე HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
სპეციფიკური ელექტრული წინაღობა	DIN IEC 60413/402	13	μΩმ
მოხრის სიმტკიცე	DIN IEC 60413/501	60	მპა
შეკუმშვის სიმტკიცე	DIN 51910	130	მპა
იანგის მოდული	DIN 51915	11.5×10³	მპა
თერმული გაფართოება (20-200℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
თბოგამტარობა (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

ის სპეციალურად შექმნილია მაღალი ეფექტურობის მზის უჯრედების წარმოებისთვის, რომელიც მხარს უჭერს G12 დიდი ზომის ვაფლის დამუშავებას. ოპტიმიზებული მატარებლის დიზაინი მნიშვნელოვნად ზრდის გამტარუნარიანობას, რაც უზრუნველყოფს უფრო მაღალ მოსავლიანობას და წარმოების ხარჯების შემცირებას.

ნივთი	ტიპი	ვაფლის მატარებელი ნომერი
PEVCD გრეფიტის ნავი - 156 სერია	156-13 გრეფიტის ნავი	144
	156-19 გრეფიტის ნავი	216
	156-21 გრეფიტის ნავი	240
	156-23 გრაფიტის ნავი	308
PEVCD გრეფიტის ნავი - 125 სერია	125-15 გრეფიტის ნავი	196
	125-19 გრეფიტის ნავი	252
	125-21 გრაფიტის ნავი	280