Grafiet substraat waferhouder voor PECVD

De VET Energy Graphite Substrate Wafer Holder is een precisiedrager, ontworpen voor het PECVD-proces (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Deze hoogwaardige Graphite Substrate Holder is gemaakt van zeer zuiver grafietmateriaal met een hoge dichtheid, met uitstekende temperatuurbestendigheid, corrosiebestendigheid, maatvastheid en andere eigenschappen. Het biedt een stabiel ondersteuningsplatform voor het PECVD-proces en garandeert de uniformiteit en vlakheid van de filmafzetting.

De VET Energy PECVD-procesgrafietwafer-ondersteuningstafel heeft de volgende kenmerken:

▪Hoge zuiverheid:extreem laag gehalte aan onzuiverheden, voorkomt verontreiniging van de film, garandeert de film kwaliteit.

▪Hoge dichtheid:hoge dichtheid, hoge mechanische sterkte, kan hoge temperaturen en hoge druk in een PECVD-omgeving weerstaan.

▪Goede maatvastheid:Kleine maatverandering bij hoge temperatuur, waardoor de stabiliteit van het proces wordt gewaarborgd.

▪Uitstekende thermische geleidbaarheid:Effectieve warmteoverdracht om oververhitting van de wafer te voorkomen.

▪Sterke corrosiebestendigheid:kan erosie door verschillende corrosieve gassen en plasma weerstaan.

▪Service op maat:Grafiet steuntafels van verschillende afmetingen en vormen kunnen worden aangepast aan de behoeften van de klant.

Productvoordelen

▪Verbeter de filmkwaliteit:Zorgt voor een gelijkmatige afzetting van de film en verbetert de filmkwaliteit.

▪Verleng de levensduur van apparatuur:Uitstekende corrosiebestendigheid, verlengt de levensduur van PECVD-apparatuur.

▪Productiekosten verlagen:Hoogwaardige grafietbakken kunnen de hoeveelheid afval verminderen en productiekosten verlagen.