Graphitsubstrat-Waferhalter für PECVD

Kurze Beschreibung:

Der Graphitsubstrathalter von VET Energy sorgt für die Waferausrichtung und -stabilität während des gesamten PECVD-Prozesses, verhindert Verunreinigungen und minimiert das Beschädigungsrisiko. Der Graphitwaferhalter bietet eine sichere, ebene Plattform und gewährleistet, dass die Wafer gleichmäßig dem Plasma ausgesetzt sind, um eine konsistente und hochwertige Abscheidung zu gewährleisten. Dank seiner hohen Wärmeleitfähigkeit und außergewöhnlichen Festigkeit trägt dieser Halter zur Verbesserung der Gesamtprozesseffizienz und Produktleistung bei.

Senden Sie uns eine E-Mail Download als PDF

Produktdetail

Produkt Tags

Der VET Energy Graphitsubstrat-Waferhalter ist ein Präzisionsträger für das PECVD-Verfahren (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Dieser hochwertige Graphitsubstrathalter besteht aus hochreinem, hochdichtem Graphitmaterial mit ausgezeichneter Temperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Dimensionsstabilität und weiteren Eigenschaften. Er bietet eine stabile Trägerplattform für den PECVD-Prozess und gewährleistet die Gleichmäßigkeit und Ebenheit der Filmabscheidung.

Der Graphit-Wafer-Trägertisch für das PECVD-Verfahren von VET Energy weist die folgenden Eigenschaften auf:

▪Hohe Reinheit:extrem niedriger Verunreinigungsgehalt, Vermeidung von Filmkontamination, Gewährleistung der Filmqualität.

▪Hohe Dichte:hohe Dichte, hohe mechanische Festigkeit, hält hohen Temperaturen und hohem Druck in PECVD-Umgebungen stand.

▪Gute Dimensionsstabilität:Geringe Maßänderung bei hohen Temperaturen, wodurch Prozessstabilität gewährleistet wird.

▪Hervorragende Wärmeleitfähigkeit:Übertragen Sie die Wärme effektiv, um eine Überhitzung des Wafers zu verhindern.

▪Starke Korrosionsbeständigkeit:kann der Erosion durch verschiedene korrosive Gase und Plasma widerstehen.

▪Maßgeschneiderter Service:Graphit-Auflagetische in verschiedenen Größen und Formen können entsprechend den Kundenanforderungen individuell angepasst werden.

Produktvorteile

▪Verbessern Sie die Filmqualität:Sorgen Sie für eine gleichmäßige Filmabscheidung und verbessern Sie die Filmqualität.

▪Verlängern Sie die Lebensdauer Ihrer Geräte:Hervorragende Korrosionsbeständigkeit, verlängert die Lebensdauer der PECVD-Ausrüstung.

▪Reduzieren Sie die Produktionskosten:Hochwertige Graphitschalen können die Ausschussrate verringern und die Produktionskosten senken.

Graphitwerkstoff von SGL:

Typischer Parameter: R6510
Index	Prüfnorm	Wert	Einheit
Durchschnittliche Korngröße	ISO 13320	10	μm
Schüttdichte	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Offene Porosität	DIN66133	10	%
Mittlere Porengröße	DIN66133	1.8	μm
Permeabilität	DIN 51935	0,06	cm²/s
Rockwellhärte HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Spezifischer elektrischer Widerstand	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Biegefestigkeit	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Druckfestigkeit	DIN 51910	130	MPa
Elastizitätsmodul	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Wärmeausdehnung (20–200 °C)	DIN 51909	4,2 x 10^-6	K^-1
Wärmeleitfähigkeit (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Es wurde speziell für die Herstellung hocheffizienter Solarzellen entwickelt und unterstützt die Verarbeitung großer G12-Wafer. Das optimierte Trägerdesign erhöht den Durchsatz deutlich und ermöglicht höhere Erträge und niedrigere Produktionskosten.

Artikel	Typ	Nummer Waferträger
PEVCD Grephite Boot - Die 156er Serie	156-13 Grephitboot	144
	156-19 Grephitboot	216
	156-21 Grephite-Boot	240
	156-23 Graphitboot	308
PEVCD Grephite Boot - Die 125er Serie	125-15 Grephite-Boot	196
	125-19 Grephite-Boot	252
	125-21 Graphitboot	280