Wadhah Wafer Substrat Grafit kanggo PECVD

Katrangan Cekak:

Pemegang Substrat Grafit VET Energy dirancang kanggo njaga keselarasan lan stabilitas wafer sajrone proses PECVD, nyegah kontaminasi lan nyuda risiko kerusakan. Pemegang Wafer Grafit nyedhiyakake platform sing aman lan rata, sing njamin wafer kapapar kanthi rata ing plasma kanggo deposisi sing konsisten lan berkualitas tinggi. Kanthi konduktivitas termal sing dhuwur lan kekuatan sing luar biasa, pemegang iki mbantu ningkatake efisiensi proses lan kinerja produk sakabèhé.

Kirim email menyang kita Unduh minangka PDF

Rincian Produk

Tag Produk

Wafer Substrat Grafit Energi VET minangka wadhah presisi sing dirancang kanggo proses PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Wadhah Substrat Grafit berkualitas tinggi iki digawe saka bahan grafit kanthi kemurnian tinggi lan kapadhetan tinggi, kanthi tahan suhu dhuwur, tahan korosi, stabilitas dimensi, lan karakteristik liyane sing apik banget. Wadhah iki bisa nyedhiyakake platform dhukungan sing stabil kanggo proses PECVD lan njamin keseragaman lan kerataan deposisi film.

Meja dhukungan wafer grafit proses VET Energy PECVD nduweni karakteristik ing ngisor iki:

▪Kemurnian dhuwur:isi rereged sing sithik banget, nyegah kontaminasi film, njamin kualitas film.

▪Kapadhetan dhuwur:Kapadhetan dhuwur, kekuatan mekanik dhuwur, bisa tahan suhu dhuwur lan lingkungan PECVD tekanan dhuwur.

▪Stabilitas dimensi sing apik:owah-owahan dimensi cilik ing suhu dhuwur, njamin stabilitas proses.

▪Konduktivitas termal sing apik banget:kanthi efektif mindhah panas kanggo nyegah wafer dadi panas banget.

▪Ketahanan korosi sing kuwat:bisa tahan erosi dening macem-macem gas korosif lan plasma.

▪Layanan khusus:Meja dhukungan grafit kanthi macem-macem ukuran lan wujud bisa disesuaikan miturut kabutuhan pelanggan.

Kauntungan Produk

▪Ningkatake kualitas film:Njamin deposisi film sing seragam lan ningkatake kualitas film.

▪Nambah umur piranti:Ketahanan korosi sing apik banget, ngluwihi umur layanan peralatan PECVD.

▪Ngurangi biaya produksi:Baki grafit sing berkualitas tinggi bisa nyuda tingkat scrap lan nyuda biaya produksi.

Bahan grafit saka SGL:

Parameter khas: R6510
Indeks	Standar tes	Nilai	Unit
Ukuran butir rata-rata	ISO 13320	10	μm
Kapadhetan massal	DIN IEC 60413/204	1.83	g/cm³
Porositas mbukak	DIN66133	10	%
Ukuran pori sedheng	DIN66133	1.8	μm
Permeabilitas	DIN 51935	0.06	cm²/s
Kekerasan Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Resistivitas listrik spesifik	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Kekuwatan lentur	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Kekuwatan kompresi	DIN 51910	130	MPa
Modulus Young	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Ekspansi termal (20-200 ℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
Konduktivitas termal (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Iki dirancang khusus kanggo manufaktur sel surya efisiensi dhuwur, ndhukung pangolahan wafer ukuran gedhe G12. Desain pembawa sing dioptimalake nambah throughput kanthi signifikan, saengga tingkat asil sing luwih dhuwur lan biaya produksi sing luwih murah.

Barang	Tipe	Pembawa wafer nomer
Prau Grefit PEVCD - Seri 156	Prau grefit 156-13	144
	Prau grefit 156-19	216
	Prau grefit 156-21	240
	Prau grafit 156-23	308
Prau Grefit PEVCD - Seri 125	Prau grefit 125-15	196
	Prau grefit 125-19	252
	Prau grifit 125-21	280