Deiliad Wafer Swbstrad Graffit ar gyfer PECVD

Deiliad Wafer Swbstrad Graffit ar gyfer Delwedd Dethol PECVD

Disgrifiad Byr:

Mae Deiliad Swbstrad Graffit VET Energy wedi'i beiriannu i gynnal aliniad a sefydlogrwydd wafer drwy gydol y broses PECVD, gan atal halogiad a lleihau'r risg o ddifrod. Mae'r Deiliad Wafer Graffit yn darparu platfform diogel, gwastad, gan sicrhau bod waferi yn cael eu hamlygu'n gyfartal i'r plasma ar gyfer dyddodiad cyson ac o ansawdd uchel. Gyda'i ddargludedd thermol uchel a'i gryfder eithriadol, mae'r deiliad hwn yn helpu i wella effeithlonrwydd proses cyffredinol a pherfformiad cynnyrch.

Anfonwch e-bost atom ni Lawrlwytho fel PDF

Manylion Cynnyrch

Tagiau Cynnyrch

Mae Daliwr Wafer Swbstrad Graffit Ynni VET yn gludydd manwl gywir a gynlluniwyd ar gyfer y broses PECVD (Dyddodiad Anwedd Cemegol Wedi'i Wella Plasma). Mae'r Daliwr Swbstrad Graffit o ansawdd uchel hwn wedi'i wneud o ddeunydd graffit purdeb uchel, dwysedd uchel, gyda gwrthiant tymheredd uchel rhagorol, gwrthiant cyrydiad, sefydlogrwydd dimensiwn a nodweddion eraill. Gall ddarparu llwyfan cynnal sefydlog ar gyfer y broses PECVD a sicrhau unffurfiaeth a gwastadrwydd dyddodiad ffilm.

Mae gan fwrdd cynnal waffer graffit proses PECVD VET Energy y nodweddion canlynol:

▪Purdeb uchel:cynnwys amhuredd hynod o isel, osgoi halogiad ffilm, sicrhau ansawdd ffilm.

▪Dwysedd uchel:dwysedd uchel, cryfder mecanyddol uchel, gall wrthsefyll tymheredd uchel ac amgylchedd PECVD pwysedd uchel.

▪Sefydlogrwydd dimensiwn da:newid dimensiwn bach ar dymheredd uchel, gan sicrhau sefydlogrwydd proses.

▪Dargludedd thermol rhagorol:trosglwyddo gwres yn effeithiol i atal gorboethi wafer.

▪Gwrthiant cyrydiad cryf:gall wrthsefyll erydiad gan amrywiol nwyon cyrydol a plasma.

▪Gwasanaeth wedi'i addasu:gellir addasu byrddau cymorth graffit o wahanol feintiau a siapiau yn ôl anghenion y cwsmer.

Manteision Cynnyrch

▪Gwella ansawdd ffilm:Sicrhau dyddodiad ffilm unffurf a gwella ansawdd ffilm.

▪Ymestyn oes offer:Gwrthiant cyrydiad rhagorol, ymestyn oes gwasanaeth offer PECVD.

▪Lleihau costau cynhyrchu:Gall hambyrddau graffit o ansawdd uchel leihau cyfradd sgrap a lleihau costau cynhyrchu.

Deunydd graffit o SGL:

Paramedr nodweddiadol: R6510
Mynegai	Safon prawf	Gwerth	Uned
Maint grawn cyfartalog	ISO 13320	10	μm
Dwysedd swmp	DIN IEC 60413/204	1.83	g/cm³
Mandylledd agored	DIN66133	10	%
Maint mandwll canolig	DIN66133	1.8	μm
Athreiddedd	DIN 51935	0.06	cm²/eiliad
Caledwch Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Gwrthiant trydanol penodol	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Cryfder plygu	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Cryfder cywasgol	DIN 51910	130	MPa
Modwlws Young	DIN 51915	11.5×10³	MPa
Ehangu thermol (20-200 ℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
Dargludedd thermol (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Fe'i cynlluniwyd yn benodol ar gyfer gweithgynhyrchu celloedd solar effeithlonrwydd uchel, gan gefnogi prosesu wafferi maint mawr G12. Mae dyluniad cludwr wedi'i optimeiddio yn cynyddu'r trwybwn yn sylweddol, gan alluogi cyfraddau cynnyrch uwch a chostau cynhyrchu is.

Eitem	Math	Cludwr wafer rhif
Cwch Grephite PEVCD - Y gyfres 156	Cwch graffit 156-13	144
	Cwch graffit 156-19	216
	Cwch graffit 156-21	240
	Cwch graffit 156-23	308
Cwch Grephite PEVCD - Y gyfres 125	Cwch graffit 125-15	196
	Cwch graffit 125-19	252
	Cwch graffit 125-21	280