Anell de grafit recobert de TaC

VET Energy se centra en la R+D i la producció d'anells de grafit recoberts de carbur de tàntal (TaC) CVD d'alt rendiment, i es compromet a proporcionar solucions de materials consumibles bàsics per a les indústries de semiconductors, fotovoltaica i d'alta temperatura. La nostra tecnologia de deposició química de vapor (CVD), desenvolupada independentment, forma un recobriment de carbur de tàntal dens i uniforme a la superfície del substrat de grafit mitjançant processos de precisió, millorant significativament la resistència a altes temperatures del producte (>3000 ℃), la resistència a la corrosió i la resistència al xoc tèrmic, allargant la vida útil en més de 3 vegades i reduint els costos integrals dels clients.

Els nostres avantatges tècnics:
1. Resistència a l'oxidació a altes temperatures
En una atmosfera d'aire de 1200 ℃, la taxa de guany de pes d'oxidació és ≤0,05 mg/cm²/h, que és més de 3 vegades la vida útil de resistència a l'oxidació del grafit ordinari, i és adequada per a condicions de cicle de calefacció i refrigeració d'alta freqüència.
2. Resistència a la corrosió del silici/metall fos
El recobriment de TaC és extremadament inert a metalls com el silici líquid (1600 ℃), l'alumini/coure fos, etc., evitant la fallada estructural dels anells guia tradicionals a causa de la penetració del metall, especialment adequat per a semiconductors de potència i fabricació de semiconductors de tercera generació.
3. Contaminació de partícules ultrabaixa
El procés CVD aconsegueix una densitat de recobriment >99,5% i una rugositat superficial de Ra≤0,2 μm, reduint el risc de despreniment de partícules des de la font i complint els estrictes requisits de neteja de la fabricació d'oblies de 12 polzades.
4. Control precís de la mida
Adoptant el mecanitzat de precisió CNC, la tolerància de mida del substrat de grafit és de ±0,01 mm i la deformació general després del recobriment és de <±5 μm, cosa que és adequada per a la instal·lació en cambres d'equips d'alta precisió.