Графитовое кольцо с покрытием из TaC

Компания VET Energy специализируется на исследованиях, разработках и производстве высокоэффективных графитовых колец с покрытием из карбида тантала (TaC), полученным методом химического осаждения из газовой фазы (CVD), и стремится предоставлять основные решения в области расходных материалов для полупроводниковой, фотоэлектрической и высокотемпературной промышленности. Разработанная нами технология химического осаждения из газовой фазы (CVD) формирует плотное и однородное покрытие из карбида тантала на поверхности графитовой подложки с помощью высокоточных процессов, значительно улучшая термостойкость (>3000℃), коррозионную стойкость и термостойкость изделия, увеличивая срок службы более чем в 3 раза и снижая общие затраты клиентов.

Наши технические преимущества:
1. Высокая термостойкость к окислению
В воздушной атмосфере при температуре 1200℃ скорость увеличения массы при окислении составляет ≤0,05 мг/см²/ч, что более чем в 3 раза превышает срок службы обычного графита по стойкости к окислению и подходит для условий высокочастотных циклов нагрева-охлаждения.
2. Устойчивость к коррозии расплавленного кремния/металла.
Покрытие из TaC обладает исключительной инертностью к металлам, таким как жидкий кремний (1600℃), расплавленный алюминий/медь и т. д., что позволяет избежать разрушения традиционных направляющих колец из-за проникновения металла, и особенно подходит для производства силовых полупроводников и полупроводников третьего поколения.
3. Сверхнизкий уровень загрязнения частицами
Процесс CVD обеспечивает плотность покрытия >99,5% и шероховатость поверхности Ra≤0,2 мкм, снижая риск отслоения частиц от источника и соответствуя строгим требованиям к чистоте, предъявляемым к производству 12-дюймовых кремниевых пластин.
4. Точный контроль размеров
Благодаря использованию высокоточной обработки на станках с ЧПУ, допуск по размерам графитовой подложки составляет ±0,01 мм, а общая деформация после нанесения покрытия — <±5 мкм, что делает его подходящим для установки в высокоточных камерах оборудования.