TaC প্রলেপযুক্ত গ্রাফাইট রিং

VET এনার্জি উচ্চ-কার্যক্ষমতাসম্পন্ন CVD ট্যান্টালাম কার্বাইড (TaC) প্রলেপযুক্ত গ্রাফাইট রিং-এর গবেষণা ও উন্নয়ন এবং উৎপাদনে মনোনিবেশ করে এবং সেমিকন্ডাক্টর, ফটোভোল্টাইক ও উচ্চ-তাপমাত্রার শিল্পের জন্য মূল ব্যবহার্য উপকরণের সমাধান প্রদানে প্রতিশ্রুতিবদ্ধ। আমাদের নিজস্বভাবে বিকশিত কেমিক্যাল ভেপার ডিপোজিশন (CVD) প্রযুক্তি সূক্ষ্ম প্রক্রিয়ার মাধ্যমে গ্রাফাইট সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠে একটি ঘন ও সুষম ট্যান্টালাম কার্বাইড প্রলেপ তৈরি করে, যা পণ্যের উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধ ক্ষমতা (>3000℃), ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং তাপীয় অভিঘাত প্রতিরোধ ক্ষমতাকে উল্লেখযোগ্যভাবে উন্নত করে, এর কার্যকাল ৩ গুণেরও বেশি বাড়িয়ে দেয় এবং গ্রাহকদের সামগ্রিক খরচ কমিয়ে আনে।

আমাদের প্রযুক্তিগত সুবিধাসমূহ:
১. উচ্চ তাপমাত্রায় জারণ প্রতিরোধ ক্ষমতা
১২০০℃ তাপমাত্রার বায়ুমণ্ডলে, জারণের ফলে ওজন বৃদ্ধির হার ≤০.০৫ মিলিগ্রাম/বর্গ সেন্টিমিটার/ঘণ্টা, যা সাধারণ গ্রাফাইটের জারণ প্রতিরোধ ক্ষমতার চেয়ে ৩ গুণেরও বেশি এবং এটি উচ্চ-আবৃত্তির তাপ-শীতলীকরণ চক্রের অবস্থার জন্য উপযুক্ত।
২. গলিত সিলিকন/ধাতুর ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা
TaC কোটিং তরল সিলিকন (১৬০০℃), গলিত অ্যালুমিনিয়াম/তামা ইত্যাদির মতো ধাতুর প্রতি অত্যন্ত নিষ্ক্রিয়, যা ধাতব অনুপ্রবেশের কারণে প্রচলিত গাইড রিংগুলির কাঠামোগত ব্যর্থতা রোধ করে এবং এটি বিশেষত পাওয়ার সেমিকন্ডাক্টর ও তৃতীয় প্রজন্মের সেমিকন্ডাক্টর উৎপাদনের জন্য উপযুক্ত।
৩. অতি-নিম্ন কণা দূষণ
CVD প্রক্রিয়ার মাধ্যমে >৯৯.৫% কোটিং ঘনত্ব এবং Ra≤০.২μm পৃষ্ঠতল অমসৃণতা অর্জন করা যায়, যা উৎস থেকে কণা ঝরে পড়ার ঝুঁকি কমায় এবং ১২-ইঞ্চি ওয়েফার উৎপাদনের কঠোর পরিচ্ছন্নতার প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে।
৪. সঠিক আকার নিয়ন্ত্রণ
সিএনসি প্রিসিশন মেশিনিং পদ্ধতি ব্যবহারের ফলে, গ্রাফাইট সাবস্ট্রেটের আকারের সহনশীলতা ±০.০১ মিমি এবং কোটিং করার পর সামগ্রিক বিকৃতি <±৫μm হয়, যা উচ্চ-নির্ভুল যন্ত্রপাতির চেম্বারে স্থাপনের জন্য উপযুক্ত।