TaC ආලේපිත මිනිරන් වළල්ල

VET Energy පර්යේෂණ සහ සංවර්ධන සහ ඉහළ කාර්යසාධනයක් සහිත CVD ටැන්ටලම් කාබයිඩ් (TaC) ආලේපිත මිනිරන් වළලු නිෂ්පාදනය කෙරෙහි අවධානය යොමු කරන අතර අර්ධ සන්නායක, ප්‍රකාශ වෝල්ටීයතා සහ ඉහළ උෂ්ණත්ව කර්මාන්ත සඳහා මූලික පරිභෝජන ද්‍රව්‍ය විසඳුම් සැපයීමට කැපවී සිටී. අපගේ ස්වාධීනව සංවර්ධනය කරන ලද රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීමේ (CVD) තාක්ෂණය නිරවද්‍ය ක්‍රියාවලීන් හරහා මිනිරන් උපස්ථරයේ මතුපිට ඝන සහ ඒකාකාර ටැන්ටලම් කාබයිඩ් ආලේපනයක් සාදයි, නිෂ්පාදනයේ ඉහළ උෂ්ණත්ව ප්‍රතිරෝධය (> 3000℃), විඛාදන ප්‍රතිරෝධය සහ තාප කම්පන ප්‍රතිරෝධය සැලකිය යුතු ලෙස වැඩි දියුණු කරයි, සේවා කාලය 3 ගුණයකට වඩා වැඩි කරයි, සහ පාරිභෝගිකයින්ගේ පුළුල් පිරිවැය අඩු කරයි.

අපගේ තාක්ෂණික වාසි:
1. ඉහළ උෂ්ණත්ව ඔක්සිකරණ ප්‍රතිරෝධය
1200℃ වායු වායුගෝලයකදී, ඔක්සිකරණ බර වැඩිවීමේ අනුපාතය ≤0.05mg/cm²/h වන අතර එය සාමාන්‍ය මිනිරන් වල ඔක්සිකරණ ප්‍රතිරෝධක ආයු කාලය මෙන් 3 ගුණයකටත් වඩා වැඩි වන අතර අධි-සංඛ්‍යාත තාපන-සිසිලන චක්‍ර තත්වයන් සඳහා සුදුසු වේ.
2. උණු කළ සිලිකන්/ලෝහ විඛාදනයට ප්‍රතිරෝධය
TaC ආලේපනය ද්‍රව සිලිකන් (1600℃), උණු කළ ඇලුමිනියම්/තඹ වැනි ලෝහ සඳහා අතිශයින්ම නිෂ්ක්‍රීය වන අතර, ලෝහ විනිවිද යාම හේතුවෙන් සාම්ප්‍රදායික මාර්ගෝපදේශක මුදු වල ව්‍යුහාත්මක අසාර්ථකත්වය වළක්වයි, විශේෂයෙන් බල අර්ධ සන්නායක සහ තුන්වන පරම්පරාවේ අර්ධ සන්නායක නිෂ්පාදනය සඳහා සුදුසු වේ.
3. අතිශය අඩු අංශු දූෂණය
CVD ක්‍රියාවලිය මඟින් ආලේපන ඝනත්වය >99.5% ක් සහ මතුපිට රළුබව Ra≤0.2μm ක් ලබා ගන්නා අතර, එමඟින් ප්‍රභවයෙන් අංශු වැගිරීමේ අවදානම අඩු කරන අතර අඟල් 12 වේෆර් නිෂ්පාදකයාගේ දැඩි පිරිසිදුකම අවශ්‍යතා සපුරාලයි.
4. නිරවද්‍ය ප්‍රමාණ පාලනය
CNC නිරවද්‍ය යන්ත්‍රෝපකරණ භාවිතා කිරීමේදී, මිනිරන් උපස්ථරයේ ප්‍රමාණයේ ඉවසීම ± 0.01mm වන අතර, ආලේපනයෙන් පසු සමස්ත විරූපණය ± 5μm වන අතර එය ඉහළ නිරවද්‍යතාවයකින් යුත් උපකරණ කුටිවල ස්ථාපනය සඳහා සුදුසු වේ.