Anillo de grafito recubierto de TaC

VET Energy se centra en la I+D y la producción de anillos de grafito recubiertos con carburo de tantalio (TaC) CVD de alto rendimiento y se compromete a proporcionar soluciones de materiales consumibles esenciales para las industrias de semiconductores, fotovoltaica y de alta temperatura. Nuestra tecnología de deposición química en fase de vapor (CVD), desarrollada independientemente, forma un recubrimiento denso y uniforme de carburo de tantalio sobre la superficie del sustrato de grafito mediante procesos de precisión, lo que mejora significativamente la resistencia del producto a altas temperaturas (>3000 °C), la resistencia a la corrosión y la resistencia al choque térmico, prolongando su vida útil más de tres veces y reduciendo los costos integrales para los clientes.

Nuestras ventajas técnicas:
1. Resistencia a la oxidación a altas temperaturas.
En una atmósfera de aire de 1200 ℃, la tasa de ganancia de peso por oxidación es ≤0,05 mg/cm²/h, que es más de 3 veces la vida útil de resistencia a la oxidación del grafito ordinario y es adecuado para condiciones de ciclo de calentamiento-enfriamiento de alta frecuencia.
2. Resistencia a la corrosión del silicio/metal fundido
El recubrimiento de TaC es extremadamente inerte a metales como silicio líquido (1600 ℃), aluminio/cobre fundido, etc., lo que evita fallas estructurales de los anillos guía tradicionales debido a la penetración del metal y es especialmente adecuado para semiconductores de potencia y fabricación de semiconductores de tercera generación.
3. Contaminación por partículas ultrabaja
El proceso CVD logra una densidad de recubrimiento de >99,5% y una rugosidad de superficie de Ra≤0,2 μm, lo que reduce el riesgo de desprendimiento de partículas de la fuente y cumple con los estrictos requisitos de limpieza de la fabricación de obleas de 12 pulgadas.
4. Control preciso del tamaño
Al adoptar el mecanizado de precisión CNC, la tolerancia de tamaño del sustrato de grafito es de ±0,01 mm y la deformación general después del recubrimiento es <±5 μm, lo que es adecuado para la instalación en cámaras de equipos de alta precisión.