TaC beschichtete Grafitråd

VET Energy konzentréiert sech op d'Fuerschung an d'Entwécklung a Produktioun vun héichperformante CVD-Tantalcarbid (TaC) beschichtete Graphitréng a setzt sech dofir an, Kärverbrauchsmaterialléisungen fir d'Hallefleeder-, Photovoltaik- an Héichtemperaturindustrien ze liwweren. Eis onofhängeg entwéckelt chemesch Dampfdampfdepositiounstechnologie (CVD) bildt eng dicht an eenheetlech Tantalcarbidbeschichtung op der Uewerfläch vum Graphitsubstrat duerch Präzisiounsprozesser, wat d'Héichtemperaturbeständegkeet (>3000℃), d'Korrosiounsbeständegkeet an d'Wärmeschockbeständegkeet vum Produkt däitlech verbessert, d'Liewensdauer ëm méi wéi d'3-facht verlängert an d'Gesamtkäschte fir de Client reduzéiert.

Eis technesch Virdeeler:
1. Oxidatiounsbeständegkeet géint héich Temperaturen
An enger Loftatmosphär vun 1200 ℃ ass d'Oxidatiounsgewiichtszunahme ≤0,05 mg/cm²/h, wat méi wéi dräimol sou laang ass wéi d'Oxidatiounsbeständegkeet vu gewéinleche Graphit, an ass gëeegent fir Héichfrequenz-Heiz- a Killzyklusbedingungen.
2. Widderstand géint geschmollte Silizium-/Metallkorrosioun
D'TaC-Beschichtung ass extrem inert géint Metaller wéi flëssegt Silizium (1600 ℃), geschmolten Aluminium/Koffer, etc., wouduerch e strukturelle Versoen vun traditionelle Führungsréng wéinst Metallpenetratioun verhënnert gëtt, besonnesch gëeegent fir d'Produktioun vun Energiehallefleiter an der drëtter Generatioun vun Hallefleiter.
3. Ultra-niddreg Partikelkontaminatioun
De CVD-Prozess erreecht eng Beschichtungsdicht vu >99,5% an eng Uewerflächenrauheet vu Ra≤0,2μm, wouduerch de Risiko vum Partikelofschiet vun der Quell reduzéiert gëtt an déi streng Rengheetsufuerderunge vun den 12-Zoll-Waferhersteller erfëllt ginn.
4. Präzis Gréisstkontroll
Mat der CNC-Präzisiounsbearbeitung ass d'Gréissttoleranz vum Graphitsubstrat ±0,01 mm, an déi total Deformatioun nom Beschichtungsprozess <±5 μm, wat fir d'Installatioun an héichpräzisen Ausrüstungskummeren gëeegent ass.