TaC लेपित ग्रेफाइट रिंग

VET Energy उच्च-प्रदर्शन वाले CVD टैंटलम कार्बाइड (TaC) लेपित ग्रेफाइट रिंगों के अनुसंधान एवं विकास और उत्पादन पर केंद्रित है, और अर्धचालक, फोटोवोल्टिक और उच्च-तापमान उद्योगों के लिए मुख्य उपभोज्य सामग्री समाधान प्रदान करने के लिए प्रतिबद्ध है। हमारी स्वतंत्र रूप से विकसित रासायनिक वाष्प जमाव (CVD) तकनीक सटीक प्रक्रियाओं के माध्यम से ग्रेफाइट सब्सट्रेट की सतह पर एक सघन और एकसमान टैंटलम कार्बाइड कोटिंग बनाती है, जिससे उत्पाद की उच्च तापमान प्रतिरोधकता (>3000℃), संक्षारण प्रतिरोधकता और तापीय आघात प्रतिरोधकता में उल्लेखनीय सुधार होता है, सेवा जीवन तीन गुना से अधिक बढ़ जाता है, और ग्राहकों की समग्र लागत कम हो जाती है।

हमारी तकनीकी खूबियां:
1. उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध
1200 ℃ के वायुमंडलीय वातावरण में, ऑक्सीकरण भार वृद्धि दर ≤0.05 मिलीग्राम/सेमी²/घंटा है, जो साधारण ग्रेफाइट के ऑक्सीकरण प्रतिरोध जीवन से 3 गुना अधिक है, और उच्च आवृत्ति ताप-शीतलन चक्र स्थितियों के लिए उपयुक्त है।
2. पिघले हुए सिलिकॉन/धातु के संक्षारण के प्रति प्रतिरोध
TaC कोटिंग तरल सिलिकॉन (1600℃), पिघले हुए एल्यूमीनियम/तांबे आदि जैसी धातुओं के प्रति अत्यंत निष्क्रिय होती है, जिससे धातु के प्रवेश के कारण पारंपरिक गाइड रिंगों की संरचनात्मक विफलता से बचा जा सकता है, जो विशेष रूप से पावर सेमीकंडक्टर और तीसरी पीढ़ी के सेमीकंडक्टर निर्माण के लिए उपयुक्त है।
3. अत्यंत निम्न कण संदूषण
सीवीडी प्रक्रिया 99.5% से अधिक की कोटिंग घनत्व और Ra≤0.2μm की सतह खुरदरापन प्राप्त करती है, जिससे स्रोत से कणों के झड़ने का जोखिम कम हो जाता है और 12-इंच वेफर निर्माण की सख्त स्वच्छता आवश्यकताओं को पूरा किया जाता है।
4. सटीक आकार नियंत्रण
सीएनसी प्रेसिजन मशीनिंग को अपनाने से, ग्रेफाइट सब्सट्रेट की आकार सहनशीलता ±0.01 मिमी है, और कोटिंग के बाद कुल विरूपण <±5 μm है, जो उच्च-सटीकता उपकरण कक्षों में स्थापना के लिए उपयुक्त है।