Cincin Grafit Bersalut TaC

VET Energy memberi tumpuan kepada R&D dan pengeluaran gelang grafit bersalut tantalum karbida (TaC) CVD berprestasi tinggi, dan komited untuk menyediakan penyelesaian bahan guna guna teras untuk industri semikonduktor, fotovoltaik dan suhu tinggi. Teknologi pemendapan wap kimia (CVD) kami yang dibangunkan secara bebas membentuk salutan tantalum karbida padat dan seragam pada permukaan substrat grafit melalui proses ketepatan, meningkatkan dengan ketara rintangan suhu tinggi produk (>3000 ℃), rintangan kakisan dan rintangan kejutan haba, memanjangkan hayat perkhidmatan lebih daripada 3 kali ganda, dan mengurangkan kos komprehensif pelanggan.

Kelebihan teknikal kami:
1. Rintangan pengoksidaan suhu tinggi
Dalam suasana udara 1200℃, kadar pertambahan berat pengoksidaan ialah ≤0.05mg/cm²/j, iaitu lebih daripada 3 kali hayat rintangan pengoksidaan grafit biasa, dan sesuai untuk keadaan kitaran pemanasan-penyejukan frekuensi tinggi.
2. Rintangan kepada kakisan silikon/logam cair
Salutan TaC amat lengai kepada logam seperti silikon cecair (1600 ℃), aluminium/kuprum cair, dsb., mengelakkan kegagalan struktur gelang panduan tradisional akibat penembusan logam, terutamanya sesuai untuk semikonduktor kuasa dan pembuatan semikonduktor generasi ketiga.
3. Pencemaran zarah ultra-rendah
Proses CVD mencapai ketumpatan salutan >99.5% dan kekasaran permukaan Ra≤0.2μm, mengurangkan risiko penumpahan zarah daripada punca dan memenuhi keperluan kebersihan yang ketat bagi pembuatan wafer 12 inci.
4. Kawalan saiz yang tepat
Mengguna pakai pemesinan ketepatan CNC, toleransi saiz substrat grafit ialah ±0.01mm, dan ubah bentuk keseluruhan selepas salutan adalah <±5μm, yang sesuai untuk pemasangan dalam ruang peralatan berketepatan tinggi.