TaC-beschichteter Graphitring

VET Energy konzentriert sich auf die Forschung und Entwicklung sowie Produktion von hochleistungsfähigen CVD-Graphitringen mit Tantalkarbid-Beschichtung (TaC) und bietet Lösungen für Kernverbrauchsmaterialien in der Halbleiter-, Photovoltaik- und Hochtemperaturindustrie. Unsere eigens entwickelte CVD-Technologie (Chemical Vapor Deposition) erzeugt durch Präzisionsverfahren eine dichte und gleichmäßige Tantalkarbid-Beschichtung auf der Oberfläche des Graphitsubstrats. Dadurch werden die Hochtemperaturbeständigkeit (> 3000 °C), Korrosionsbeständigkeit und Thermoschockbeständigkeit des Produkts deutlich verbessert, die Lebensdauer um mehr als das Dreifache verlängert und die Gesamtkosten für die Kunden gesenkt.

Unsere technischen Vorteile:
1. Hohe Temperaturoxidationsbeständigkeit
In einer Luftatmosphäre von 1200 °C beträgt die Oxidationsgewichtszunahmerate ≤ 0,05 mg/cm²/h, was mehr als dem Dreifachen der Oxidationsbeständigkeitslebensdauer von gewöhnlichem Graphit entspricht und für Bedingungen mit hochfrequenten Heiz- und Kühlzyklen geeignet ist.
2. Beständigkeit gegen geschmolzenes Silizium/Metallkorrosion
Die TaC-Beschichtung ist gegenüber Metallen wie flüssigem Silizium (1600 °C), geschmolzenem Aluminium/Kupfer usw. äußerst inert und verhindert so das Strukturversagen herkömmlicher Führungsringe durch Metalldurchdringung. Sie ist besonders für die Herstellung von Leistungshalbleitern und Halbleitern der dritten Generation geeignet.
3. Extrem geringe Partikelbelastung
Der CVD-Prozess erreicht eine Beschichtungsdichte von >99,5 % und eine Oberflächenrauheit von Ra≤0,2 μm, wodurch das Risiko einer Partikelablösung von der Quelle reduziert wird und die strengen Sauberkeitsanforderungen der 12-Zoll-Wafer-Herstellung erfüllt werden.
4. Präzise Größenkontrolle
Durch die CNC-Präzisionsbearbeitung beträgt die Größentoleranz des Graphitsubstrats ±0,01 mm und die Gesamtverformung nach der Beschichtung <±5 μm, was für den Einbau in hochpräzise Gerätekammern geeignet ist.