TaC დაფარული გრაფიტის რგოლი

VET Energy ფოკუსირებულია მაღალი ხარისხის CVD ტანტალის კარბიდის (TaC) საფარიანი გრაფიტის რგოლების კვლევასა და წარმოებაზე და ორიენტირებულია ნახევარგამტარული, ფოტოელექტრული და მაღალი ტემპერატურის ინდუსტრიებისთვის ძირითადი მოხმარების მასალების გადაწყვეტილებების მიწოდებაზე. ჩვენი დამოუკიდებლად შემუშავებული ქიმიური ორთქლის დეპონირების (CVD) ტექნოლოგია ზუსტი პროცესების მეშვეობით გრაფიტის სუბსტრატის ზედაპირზე ქმნის მკვრივ და ერთგვაროვან ტანტალის კარბიდის საფარს, რაც მნიშვნელოვნად აუმჯობესებს პროდუქტის მაღალტემპერატურულ (>3000℃) მდგრადობას, კოროზიის და თერმული შოკისადმი მდგრადობას, 3-ჯერ მეტად ახანგრძლივებს მომსახურების ვადას და ამცირებს მომხმარებლის ხარჯებს.

ჩვენი ტექნიკური უპირატესობები:
1. მაღალი ტემპერატურის დაჟანგვის წინააღმდეგობა
1200℃ ჰაერის ატმოსფეროში, დაჟანგვის წონის მატების სიჩქარე ≤0.05 მგ/სმ²/სთ-ია, რაც ჩვეულებრივი გრაფიტის დაჟანგვისადმი მდგრადობის სიცოცხლის ხანგრძლივობას 3-ჯერ აღემატება და შესაფერისია მაღალი სიხშირის გათბობა-გაგრილების ციკლის პირობებისთვის.
2. გამდნარი სილიციუმის/ლითონის კოროზიისადმი მდგრადობა
TaC საფარი უკიდურესად ინერტულია ისეთი ლითონების მიმართ, როგორიცაა თხევადი სილიციუმი (1600℃), გამდნარი ალუმინი/სპილენძი და ა.შ., რაც ხელს უშლის ტრადიციული გამტარი რგოლების სტრუქტურულ დაზიანებას ლითონის შეღწევადობის გამო, განსაკუთრებით შესაფერისია ენერგეტიკული ნახევარგამტარების და მესამე თაობის ნახევარგამტარების წარმოებისთვის.
3. ულტრადაბალი ნაწილაკებით დაბინძურება
CVD პროცესი აღწევს >99.5%-იანი საფარის სიმკვრივეს და Ra≤0.2μm ზედაპირის უხეშობას, რაც ამცირებს ნაწილაკების წყაროდან გამოყოფის რისკს და აკმაყოფილებს 12 დიუმიანი ვაფლის მწარმოებლის სისუფთავის მკაცრ მოთხოვნებს.
4. ზუსტი ზომის კონტროლი
CNC ზუსტი დამუშავების გამოყენებით, გრაფიტის სუბსტრატის ზომის ტოლერანტობაა ±0.01 მმ, ხოლო დაფარვის შემდეგ საერთო დეფორმაცია <±5μm, რაც შესაფერისია მაღალი სიზუსტის აღჭურვილობის კამერებში დასამონტაჟებლად.