ចិញ្ចៀនក្រាហ្វិចស្រោបដោយ TaC

VET Energy ផ្តោតលើ R&D និងការផលិតចិញ្ចៀនក្រាហ្វិចដែលស្រោបដោយ CVD tantalum carbide (TaC) ដែលមានប្រសិទ្ធភាពខ្ពស់ ហើយប្តេជ្ញាផ្តល់ដំណោះស្រាយសម្ភារៈប្រើប្រាស់ស្នូលសម្រាប់ឧស្សាហកម្ម semiconductor, photovoltaic និងសីតុណ្ហភាពខ្ពស់។ បច្ចេកវិទ្យានៃការបំភាយចំហាយគីមី (CVD) ដែលត្រូវបានអភិវឌ្ឍដោយឯករាជ្យរបស់យើងបង្កើតបានជាថ្នាំកូត tantalum carbide ក្រាស់ និងឯកសណ្ឋាននៅលើផ្ទៃនៃស្រទាប់ខាងក្រោមក្រាហ្វិច តាមរយៈដំណើរការច្បាស់លាស់ ធ្វើអោយប្រសើរឡើងនូវភាពធន់នឹងសីតុណ្ហភាពខ្ពស់របស់ផលិតផល (> 3000 ℃) ធន់នឹងការ corrosion និងធន់នឹងការឆក់កម្ដៅ ពន្យារអាយុសេវាកម្មលើសពី 3 ដង និងកាត់បន្ថយការចំណាយដ៏ទូលំទូលាយរបស់អតិថិជន។

គុណសម្បត្តិបច្ចេកទេសរបស់យើង៖
1. ធន់នឹងអុកស៊ីតកម្មសីតុណ្ហភាពខ្ពស់។
នៅក្នុងបរិយាកាសខ្យល់ 1200 ℃ អត្រាឡើងទម្ងន់អុកស៊ីតកម្មគឺ ≤ 0.05mg/cm²/h ដែលលើសពី 3 ដងនៃអាយុកាលធន់នឹងអុកស៊ីតកម្មនៃក្រាហ្វិចធម្មតា ហើយសមស្របសម្រាប់លក្ខខណ្ឌនៃវដ្តកំដៅ-ត្រជាក់ដែលមានប្រេកង់ខ្ពស់។
2. ធន់នឹងការច្រេះស៊ីលីកុន/ដែករលាយ
ថ្នាំកូត TaC មានភាពអសកម្មខ្លាំងចំពោះលោហធាតុដូចជា ស៊ីលីកុនរាវ (1600 ℃) អាលុយមីញ៉ូម/ទង់ដែងដែលរលាយ។
3. ការចម្លងរោគភាគល្អិតទាបបំផុត។
ដំណើរការ CVD សម្រេចបាននូវដង់ស៊ីតេនៃថ្នាំកូត > 99.5% និងភាពរដុបលើផ្ទៃនៃRa≤0.2μm ដោយកាត់បន្ថយហានិភ័យនៃការបញ្ចេញភាគល្អិតចេញពីប្រភព និងបំពេញតាមតម្រូវការអនាម័យដ៏តឹងរ៉ឹងនៃក្រុមហ៊ុនផលិត wafer ទំហំ 12 អ៊ីញ។
4. ការត្រួតពិនិត្យទំហំច្បាស់លាស់
ការប្រើប្រាស់ម៉ាស៊ីន CNC ភាពជាក់លាក់ ការអត់ធ្មត់ទំហំនៃស្រទាប់ខាងក្រោមក្រាហ្វិចគឺ ± 0.01mm ហើយការខូចទ្រង់ទ្រាយសរុបបន្ទាប់ពីថ្នាំកូតគឺ <±5μm ដែលសមរម្យសម្រាប់ការដំឡើងនៅក្នុងបន្ទប់ឧបករណ៍ដែលមានភាពជាក់លាក់ខ្ពស់។