TaC капталган графит шакек

VET Energy R&D жана жогорку өндүрүмдүүлүктөгү CVD тантал карбиди (TaC) менен капталган графит шакекчелерин өндүрүүгө басым жасайт жана жарым өткөргүч, фотоэлектрдик жана жогорку температуралуу тармактар ​​үчүн негизги керектелүүчү материалдардын чечимдерин камсыз кылууга умтулат. Биздин өз алдынча иштелип чыккан химиялык бууларды түшүрүү (CVD) технологиябыз так процесстер аркылуу графиттик субстраттын бетинде тыгыз жана бирдиктүү тантал карбид каптоосун түзүп, буюмдун жогорку температурага туруктуулугун (>3000℃), коррозияга туруктуулугун жана термикалык соккуга туруктуулугун олуттуу түрдө жакшыртат, кызмат мөөнөтүн 3 эседен ашык узартат жана кардарлардын чыгымдарын азайтат.

Биздин техникалык артыкчылыктар:
1. Жогорку температурадагы кычкылданууга каршылык
1200 ℃ аба атмосферасында кычкылдануу салмагынын өсүү ылдамдыгы ≤0.05mg/cm²/h болуп саналат, бул кадимки графиттин кычкылданууга туруктуулугунан 3 эсе көп жана жогорку жыштыктагы жылытуу-муздатуу циклинин шарттарына ылайыктуу.
2. Эриген кремний/металл коррозиясына туруштук берүү
TaC каптоосу суюк кремний (1600 ℃), эриген алюминий/жез ж.б. сыяктуу металлдарга өтө инерттүү, металлдын өтүшүнө байланыштуу салттуу жетектөөчү шакекчелердин структуралык бузулушунан сактайт, өзгөчө кубаттуу жарым өткөргүчтөр жана үчүнчү муундагы жарым өткөргүчтөрдү өндүрүү үчүн ылайыктуу.
3. Ультра аз бөлүкчөлөрдүн булгануусу
CVD процесси каптоо тыгыздыгын >99,5%га жана Ra≤0,2μm беттик тегиздигине жетет, булактан бөлүкчөлөрдүн төгүлүп кетүү коркунучун азайтат жана 12 дюймдук пластинка өндүрүүчүсүнүн катуу тазалык талаптарына жооп берет.
4. Өлчөмдү так көзөмөлдөө
CNC тактык иштетүүнү кабыл алуу, графит субстраттын өлчөмү сабырдуулугу ± 0.01мм, жана капталгандан кийин жалпы деформация <± 5μm, бул жогорку тактыктагы жабдуулардын камераларына орнотууга ылайыктуу.