TaC bilan qoplangan grafit uzuk

VET Energy ilmiy-tadqiqot ishlariga va yuqori samarali CVD tantal karbid (TaC) bilan qoplangan grafit halqalarini ishlab chiqarishga e'tibor qaratadi va yarimo'tkazgich, fotovoltaik va yuqori haroratli sanoat uchun asosiy sarflanadigan materiallar echimlarini taqdim etishga intiladi. Mustaqil ravishda ishlab chiqilgan kimyoviy bug'larni cho'ktirish (CVD) texnologiyamiz nozik jarayonlar orqali grafit substrat yuzasida zich va bir xil tantal karbid qoplamasini hosil qiladi, mahsulotning yuqori haroratga chidamliligini (>3000 ℃), korroziyaga chidamliligi va termal zarba qarshiligini sezilarli darajada yaxshilaydi, xizmat muddatini 3 baravardan ko'proq uzaytiradi va mijozlarning xarajatlarini kamaytiradi.

Bizning texnik afzalliklarimiz:
1. Yuqori haroratli oksidlanish qarshiligi
1200 ℃ havo atmosferasida oksidlanish vaznining o'sish tezligi ≤0,05mg / sm² / soat ni tashkil qiladi, bu oddiy grafitning oksidlanish qarshiligi muddatidan 3 baravar ko'pdir va yuqori chastotali isitish-sovutish davri sharoitlariga mos keladi.
2. Erigan kremniy/metall korroziyaga qarshilik
TaC qoplamasi suyuq kremniy (1600 ℃), eritilgan alyuminiy / mis va boshqalar kabi metallarga nisbatan o'ta inert bo'lib, metallning kirib borishi sababli an'anaviy hidoyat halqalarining strukturaviy ishdan chiqishiga yo'l qo'ymaydi, ayniqsa quvvat yarimo'tkazgichlari va uchinchi avlod yarimo'tkazgichlar ishlab chiqarish uchun mos keladi.
3. Ultra past zarrachalar bilan ifloslanish
CVD jarayoni> 99,5% qoplama zichligiga va Ra≤0,2 mkm sirt pürüzlülüğüne erishadi, bu manbadan zarrachalar to'kilishi xavfini kamaytiradi va 12 dyuymli gofret ishlab chiqaruvchining qattiq tozalik talablariga javob beradi.
4. Aniq o'lchamni nazorat qilish
CNC nozik ishlov berishni qabul qilish, grafit substratining o'lchamiga bardoshliligi ± 0,01 mm va qoplamadan keyingi umumiy deformatsiya <± 5 mikronni tashkil etadi, bu yuqori aniqlikdagi uskunalar kameralariga o'rnatish uchun mos keladi.