Anello in grafite rivestito in TaC

VET Energy si concentra sulla ricerca e sviluppo e sulla produzione di anelli di grafite rivestiti con carburo di tantalio (TaC) CVD ad alte prestazioni, impegnandosi a fornire soluzioni di materiali di consumo essenziali per i settori dei semiconduttori, del fotovoltaico e delle alte temperature. La nostra tecnologia di deposizione chimica da fase vapore (CVD), sviluppata internamente, forma un rivestimento di carburo di tantalio denso e uniforme sulla superficie del substrato di grafite attraverso processi di precisione, migliorando significativamente la resistenza alle alte temperature (>3000℃), alla corrosione e agli shock termici del prodotto, prolungandone la durata di oltre 3 volte e riducendo i costi complessivi per i clienti.

I nostri vantaggi tecnici:
1. Resistenza all'ossidazione ad alta temperatura
In un'atmosfera d'aria a 1200℃, il tasso di aumento di peso per ossidazione è ≤0,05 mg/cm²/h, che è più di 3 volte la durata di resistenza all'ossidazione della grafite ordinaria, ed è adatto a condizioni di cicli di riscaldamento-raffreddamento ad alta frequenza.
2. Resistenza alla corrosione da silicio fuso/metallo
Il rivestimento in TaC è estremamente inerte nei confronti di metalli come il silicio liquido (1600℃), l'alluminio/rame fuso, ecc., evitando cedimenti strutturali degli anelli di guida tradizionali dovuti alla penetrazione del metallo, risultando particolarmente adatto per i semiconduttori di potenza e la produzione di semiconduttori di terza generazione.
3. Contaminazione da particelle estremamente bassa
Il processo CVD raggiunge una densità di rivestimento superiore al 99,5% e una rugosità superficiale Ra ≤ 0,2 μm, riducendo il rischio di distacco di particelle dalla sorgente e soddisfacendo i rigorosi requisiti di pulizia della produzione di wafer da 12 pollici.
4. Controllo preciso delle dimensioni
Grazie alla lavorazione di precisione CNC, la tolleranza dimensionale del substrato di grafite è di ±0,01 mm e la deformazione complessiva dopo il rivestimento è <±5 μm, il che lo rende adatto all'installazione in camere per apparecchiature di alta precisione.