סיליקאָן קאַרבייד SiC דיפיוזשאַן פּראָצעס רער

סיליקאָן קאַרבייד SiC דיפיוזשאַן פּראָצעס רער

סיליקאָן קאַרבייד דיפיוזשאַן אויוון טובזזענען שליסל קאָמפּאָנענטן געניצט אין האַלב-קאָנדוקטאָר, הויך-טעמפּעראַטור היץ באַהאַנדלונג, און מאַטעריאַל צוגרייטונג פּראָצעסן. זיי ווערן בפֿרט געניצט ווי די שטיצע און רעאַקציע קאַמער פֿאַר דיפוזיע אויוון אָדער אַקסאַדיישאַן אויוון, דורכפֿירנדיק פּראָצעסן ווי אַטמאָספֿערישע רעאַקציע, אַקסאַדיישאַן, דיפוזיע, און אַנילינג אין הויך-טעמפּעראַטור, העכסט קעראָוסיוו ינווייראַנמאַנץ.
VET ענערגיע ספּעציאַליזירט זיך אין דיזיין און מאַנופאַקטורינג פון סיליקאָן קאַרבייד (SiC) רערן פֿאַר הויך-טעמפּעראַטור און קעראָוסיוו האַלב-קאָנדוקטאָר אַפּלאַקיישאַנז. מיט אַוואַנסירטע פּראָדוקציע פאַסילאַטיז און פּראַפּרייאַטערי CVD און סינטערינג טעקנאַלאַדזשיז, מיר צושטעלן רערן וואָס האָבן ויסגעצייכנט טערמאַל פעסטקייַט, אַקסאַדיישאַן קעגנשטעל, און לאַנג דינסט לעבן.

מעלות פון VET Energy'ס SiC רערן:

אולטרא-הויך ריינקייט:פּראָדוצירט מיט אַ ספּעציעלן סינטערינג פּראָצעס, ווערן שעדלעכע מעטאַל פֿאַרפּעסטיקונגען (ווי Na, K, Fe, און Al) רידוסט צום ppb לעוועל.
גאָר נידעריקע אויסגאַסינג:אונטער הויך-טעמפּעראַטור, הויך-וואַקוום סביבות, איז די אויסגאַסינג פיל נידעריגער ווי ביי קוואַרץ, וואָס פאַרהיט עפעקטיוו קאַנטאַמאַניישאַן פון פּראָצעס קאַמער, ענשורינג די אינטרינסיק קוואַליטעט פון דעפּאַזיטיד דין פילמען אָדער קריסטאַל וווּקס, און באַדייטנד ימפּרוווינג פּראָדוקט טראָגן (ספּעציעל קריטיש פֿאַר SiC עפּיטאַקסי, GaN וווּקס, און הויך-סוף איין-קריסטאַל סיליקאָן פּראָדוקציע).
הויך-טעמפּעראַטור סטאַביליטעט:לאַנג-טערמין אַפּערייטינג טעמפּעראַטורן העכער 1600°C (ווייט העכער דעם ווייכונג פונקט פון קוואַרץ, בעערעך 1200°C) זענען מעגלעך, און קורץ-טערמין טעמפּעראַטורן קענען וויטשטיין אפילו העכערע טעמפּעראַטורן (אַזאַ ווי 1800°C), וואָס טרעפן די גאָר הויך-טעמפּעראַטור באדערפענישן פון דריט-דור האַלב-קאָנדוקטאָרן און קריסטאַל וווּקס פּראָצעסן.
כעמישע קעראָוזשאַן קעגנשטעל:העכסט קעגנשטעליק צו העכסט קעראָזיווע גאַזן ווי HCl, Cl₂, און HF, ווי אויך געשמאָלצן סיליקאָן און מעטאַל פארע, וואָס האַלט די סטרוקטורעלע אָרנטלעכקייט און ייבערפלאַך ענדיקונג אין קאָמפּלעקסע אַטמאָספערעס ווי CVD, דיפוזיע, אָקסידאַציע, און עטשינג, מיט אַ לעבן-שפּאַן וואָס איז פיל לענגער ווי די פון קוואַרץ אויוון רערן.
אויסגעצייכנטע טערמישע קאַנדאַקטיוויטי:איר טערמישע קאַנדאַקטיוויטי איז דאַזאַנז מאָל גרעסער ווי די פון קוואַרץ, וואָס ערמעגליכט אַ שנעלערע און מער איינהייטלעכע טעמפּעראַטור פאַרשפּרייטונג אין די אויוון און פֿאַרבעסערט פּראָצעס איינהייטלעכקייט און ריפּיטאַביליטי. דאָס איז ספּעציעל קריטיש פֿאַר גרויס-שטח, מולטי-ווייפער פּראַסעסינג (למשל, פאָטאָוואָלטאַיק דיפיוזשאַן אויוון און MOCVD רעאַקטאָרן).
דימענסיאָנעלע פעסטקייט:איר גאָר נידעריקע קאָעפיציענט פון טערמישער יקספּאַנשאַן ענשורז אַז די אויוון רער האַלט זייער סטאַביל געאָמעטריע אפילו ווען אונטערטעניק צו ריפּיטיד און דראַסטיק טעמפּעראַטור פלוקטואַציעס, פּרעווענטינג סילינג דורכפאַל אָדער דרוק קאַנסאַנטריישאַן געפֿירט דורך טערמישער יקספּאַנשאַן און קאַנטראַקשאַנז.
האַלטבארקייט:איר הויכע כאַרטקייט און שטאַרקייט געבן דעם אויוון רער אויסגעצייכנטע מעכאַנישע אייגנשאַפטן, מאַכנדיג עס קעגנשטעליק צו דעפאָרמאַציע און שעדיקן.

טיפּישע אַפּליקאַציע:

האַלב-קאָנדוקטאָר פאַבריקאַציע:SiC/GaN עפּיטאַקסיאַל גראָוט (MOCVD, HTCVD), סיליקאָן-באַזירט עפּיטאַקסי, הויך-טעמפּעראַטור דיפוזיע/אָקסידאַציע/אַנילינג (RTP), און LPCVD.

פאָטאָוואָלטאַיק אינדוסטריע:הויך-טעמפּעראַטור דיפוזיע (פאָספאָר/באָר דיפוזיע) און אַנילינג פון קריסטאַליין סיליקאָן זונ - צעלן.