Tubo para proceso de difusión de carburo de silicio (SiC)

Tubo para proceso de difusión de carburo de silicio (SiC)

Tubos de horno de difusión de carburo de silicioSon componentes clave utilizados en procesos de semiconductores, tratamientos térmicos a alta temperatura y preparación de materiales. Se emplean principalmente como soporte y cámara de reacción para hornos de difusión u hornos de oxidación, realizando procesos como reacción atmosférica, oxidación, difusión y recocido en entornos altamente corrosivos y de alta temperatura.
VET Energy se especializa en el diseño y la fabricación de tubos de carburo de silicio (SiC) para aplicaciones de semiconductores en entornos corrosivos y de alta temperatura. Gracias a nuestras avanzadas instalaciones de producción y a nuestras tecnologías patentadas de CVD y sinterización, ofrecemos tubos que presentan una excelente estabilidad térmica, resistencia a la oxidación y una larga vida útil.

Ventajas de los tubos de SiC de VET Energy:

Pureza ultra alta:Mediante un proceso de sinterización especial, se producen impurezas metálicas nocivas (como Na, K, Fe y Al) que se reducen al nivel de partes por mil millones (ppb).
Emisión de gases extremadamente baja:En entornos de alta temperatura y alto vacío, la desgasificación es mucho menor que la del cuarzo, lo que previene eficazmente la contaminación de la cámara de procesamiento, garantiza la calidad intrínseca de las películas delgadas depositadas o el crecimiento de cristales, y mejora significativamente el rendimiento del producto (algo especialmente crítico para la epitaxia de SiC, el crecimiento de GaN y la producción de silicio monocristalino de alta gama).
Estabilidad a altas temperaturas:Es posible alcanzar temperaturas de funcionamiento a largo plazo superiores a 1600 °C (muy por encima del punto de reblandecimiento del cuarzo, aproximadamente 1200 °C), y a corto plazo puede soportar temperaturas aún más elevadas (como 1800 °C), cumpliendo así los requisitos de temperatura ultra alta de los semiconductores de tercera generación y los procesos de crecimiento de cristales.
Resistencia a la corrosión química:Altamente resistente a gases altamente corrosivos como HCl, Cl₂ y HF, así como al silicio fundido y al vapor de metal, manteniendo la integridad estructural y el acabado superficial en atmósferas complejas como CVD, difusión, oxidación y grabado, con una vida útil que supera con creces la de los tubos de horno de cuarzo.
Excelente conductividad térmica:Su conductividad térmica es decenas de veces mayor que la del cuarzo, lo que permite una distribución de temperatura más rápida y uniforme en el horno, mejorando la uniformidad y la repetibilidad del proceso. Esto es especialmente importante para el procesamiento de obleas múltiples en grandes superficies (por ejemplo, hornos de difusión fotovoltaica y reactores MOCVD).
Estabilidad dimensional:Su coeficiente de dilatación térmica extremadamente bajo garantiza que el tubo del horno mantenga una geometría muy estable incluso cuando se somete a fluctuaciones de temperatura repetidas y drásticas, evitando fallos en el sellado o concentración de tensiones causadas por la dilatación y contracción térmica.
Durabilidad:Su elevada dureza y resistencia confieren al tubo del horno excelentes propiedades mecánicas, haciéndolo resistente a la deformación y a los daños.

Aplicación típica:

Fabricación de semiconductores:Crecimiento epitaxial de SiC/GaN (MOCVD, HTCVD), epitaxia basada en silicio, difusión/oxidación/recocido a alta temperatura (RTP) y LPCVD.

Industria fotovoltaica:Difusión a alta temperatura (difusión de fósforo/boro) y recocido de células solares de silicio cristalino.