Tub i Procesit të Difuzionit SiC të Karbitit të Silicit

Tub i Procesit të Difuzionit SiC të Karbitit të Silicit

Tuba të furrës së difuzionit të karbit të silikonitjanë komponentë kryesorë të përdorur në proceset e gjysmëpërçuesve, trajtimit të nxehtësisë në temperaturë të lartë dhe përgatitjes së materialeve. Ato përdoren kryesisht si dhomë mbështetëse dhe reagimi për furrat e difuzionit ose furrat e oksidimit, duke kryer procese të tilla si reaksioni atmosferik, oksidimi, difuzioni dhe kalitja në mjedise me temperaturë të lartë dhe shumë korrozive.
VET Energy specializohet në projektimin dhe prodhimin e tubave të karabit të silicit (SiC) për aplikime gjysmëpërçuese në temperatura të larta dhe korrozive. Me ambiente të përparuara prodhimi dhe teknologji të patentuara CVD dhe sinterimi, ne ofrojmë tuba që karakterizohen nga stabilitet i shkëlqyer termik, rezistencë ndaj oksidimit dhe jetëgjatësi të gjatë shërbimi.

Avantazhet e tubave SiC të VET Energy:

Pastërti Ultra e Lartë:Të prodhuara duke përdorur një proces të veçantë sinterimi, papastërtitë e dëmshme metalike (si Na, K, Fe dhe Al) reduktohen në nivelin e ppb.
Gazim jashtëzakonisht i ulët:Në mjedise me temperaturë të lartë dhe vakum të lartë, çlirimi i gazrave është shumë më i ulët se ai i kuarcit, duke parandaluar në mënyrë efektive ndotjen e dhomës së procesit, duke siguruar cilësinë e brendshme të filmave të hollë të depozituar ose rritjen e kristaleve dhe duke përmirësuar ndjeshëm rendimentin e produktit (veçanërisht kritik për epitaksinë e SiC, rritjen e GaN dhe prodhimin e silicit me kristal të vetëm të nivelit të lartë).
Stabiliteti në temperaturë të lartë:Temperaturat e funksionimit afatgjatë që tejkalojnë 1600°C (shumë mbi pikën e zbutjes së kuarcit, afërsisht 1200°C) janë të mundshme, dhe temperaturat afatshkurtra mund t'i rezistojnë temperaturave edhe më të larta (siç janë 1800°C), duke përmbushur kërkesat për temperaturë ultra të lartë të gjysmëpërçuesve të gjeneratës së tretë dhe proceseve të rritjes së kristaleve.
Rezistenca ndaj korrozionit kimik:Shumë rezistent ndaj gazrave shumë korrozivë si HCl, Cl₂ dhe HF, si dhe silicit të shkrirë dhe avujve të metalit, duke ruajtur integritetin strukturor dhe përfundimin e sipërfaqes në atmosfera komplekse si CVD, difuzioni, oksidimi dhe gdhendja, me një jetëgjatësi që tejkalon shumë atë të tubave të furrës së kuarcit.
Përçueshmëri e shkëlqyer termike:Përçueshmëria e tij termike është dhjetëra herë më e madhe se ajo e kuarcit, duke mundësuar shpërndarje më të shpejtë dhe më uniforme të temperaturës së furrës dhe duke përmirësuar uniformitetin dhe përsëritshmërinë e procesit. Kjo është veçanërisht kritike për përpunimin me sipërfaqe të mëdha dhe me shumë pllaka (p.sh., furrat fotovoltaike të difuzionit dhe reaktorët MOCVD).
Stabiliteti dimensional:Koeficienti jashtëzakonisht i ulët i zgjerimit termik siguron që tubi i furrës të ruajë një gjeometri shumë të qëndrueshme edhe kur i nënshtrohet luhatjeve të përsëritura dhe drastike të temperaturës, duke parandaluar dështimin e guarnicionit ose përqendrimin e stresit të shkaktuar nga zgjerimi dhe tkurrja termike.
Qëndrueshmëria:Fortësia dhe rezistenca e saj e lartë i japin tubit të furrës veti të shkëlqyera mekanike, duke e bërë atë rezistent ndaj deformimit dhe dëmtimit.

Zbatimi tipik:

Prodhimi i gjysmëpërçuesve:Rritja epitaksiale e SiC/GaN (MOCVD, HTCVD), epitaksi me bazë silikoni, difuzion/oksidim/pjekje në temperaturë të lartë (RTP) dhe LPCVD.

Industria fotovoltaike:Difuzioni në temperaturë të lartë (difuzioni i fosforit/borit) dhe pjekja e qelizave diellore të silikonit kristalor.