Цахиурын карбидын SiC диффузийн процессын хоолой

Цахиурын карбидын SiC диффузийн процессын хоолой

Цахиурын карбидын диффузийн зуухны хоолойнь хагас дамжуулагч, өндөр температурын дулааны боловсруулалт, материал бэлтгэх процесст ашиглагддаг гол бүрэлдэхүүн хэсгүүд юм. Эдгээрийг голчлон диффузийн зуух эсвэл исэлдэлтийн зуухны тулгуур ба урвалын камер болгон ашигладаг бөгөөд өндөр температурт, өндөр зэврэлттэй орчинд агаар мандлын урвал, исэлдэлт, диффуз, халаах зэрэг процессуудыг гүйцэтгэдэг.
VET Energy нь өндөр температурт болон зэврэлттэй хагас дамжуулагчийн хэрэглээнд зориулсан цахиурын карбид (SiC) хоолойг зохион бүтээх, үйлдвэрлэх чиглэлээр мэргэшсэн. Дэвшилтэт үйлдвэрлэлийн байгууламж, CVD болон хайлшлах технологийн тусламжтайгаар бид маш сайн дулааны тогтвортой байдал, исэлдэлтэд тэсвэртэй, урт хугацааны ашиглалтын хугацаатай хоолойг нийлүүлдэг.

VET Energy-ийн SiC хоолойн давуу талууд:

Хэт өндөр цэвэршилт:Тусгай хайлуулах процессоор үйлдвэрлэсэн хортой металл хольц (Na, K, Fe, Al гэх мэт)-ийг ppb түвшинд хүртэл бууруулдаг.
Хэт бага хий ялгаруулалт:Өндөр температур, өндөр вакуум орчинд хий ялгаруулах нь кварцынхаас хамаагүй бага бөгөөд энэ нь процессын камерын бохирдлоос үр дүнтэй урьдчилан сэргийлж, хуримтлагдсан нимгэн хальс эсвэл талстын өсөлтийн дотоод чанарыг хангаж, бүтээгдэхүүний гарцыг мэдэгдэхүйц сайжруулдаг (ялангуяа SiC эпитакси, GaN өсөлт, өндөр зэрэглэлийн дан талст цахиурын үйлдвэрлэлд чухал ач холбогдолтой).
Өндөр температурын тогтвортой байдал:1600°C-аас дээш урт хугацааны ажиллах температур (кварцын зөөлрөх цэгээс хамаагүй өндөр, ойролцоогоор 1200°C) боломжтой бөгөөд богино хугацааны температур нь бүр ч өндөр температурыг (жишээлбэл, 1800°C) тэсвэрлэж, гурав дахь үеийн хагас дамжуулагч болон талст ургалтын процессын хэт өндөр температурын шаардлагыг хангаж чаддаг.
Химийн зэврэлтээс хамгаалах чадвар:HCl, Cl₂, HF зэрэг өндөр идэмхий хий, мөн хайлсан цахиур болон металлын ууранд өндөр тэсвэртэй, CVD, диффуз, исэлдэлт, сийлбэр зэрэг нарийн төвөгтэй агаар мандалд бүтцийн бүрэн бүтэн байдал болон гадаргуугийн өнгөлгөөг хадгалж, кварц зуухны хоолойноос хамаагүй урт ашиглалтын хугацаатай.
Маш сайн дулаан дамжуулалт:Түүний дулаан дамжуулалт нь кварцынхаас хэдэн арван дахин их бөгөөд зуухны температурын тархалтыг илүү хурдан, жигд болгож, процессын жигд байдал болон давтагдах чадварыг сайжруулдаг. Энэ нь ялангуяа том талбайтай, олон талт вафер боловсруулалтад (жишээлбэл, фотоэлектрик диффузийн зуух болон MOCVD реакторууд) маш чухал юм.
Хэмжээст тогтвортой байдал:Дулааны тэлэлтийн маш бага коэффициент нь зуухны хоолойг давтан, огцом температурын хэлбэлзэлд өртсөн ч гэсэн өндөр тогтвортой геометрийг хадгалж, дулааны тэлэлт ба агшилтаас үүдэлтэй битүүмжлэлийн эвдрэл эсвэл стрессийн концентрацийг бууруулдаг.
Бат бөх чанар:Түүний өндөр хатуулаг, бат бөх чанар нь зуухны хоолойд маш сайн механик шинж чанарыг өгч, деформаци болон эвдрэлд тэсвэртэй болгодог.

Ердийн хэрэглээ:

Хагас дамжуулагч үйлдвэрлэл:SiC/GaN эпитаксиал өсөлт (MOCVD, HTCVD), цахиур дээр суурилсан эпитакси, өндөр температурт диффузи/исэлдэлт/хайлуулах (RTP) болон LPCVD.

Фотоволтайкийн үйлдвэрлэл:Талст цахиурын нарны зай хураагуурыг өндөр температурт диффузи хийх (фосфор/борын диффузи) болон ариутгах.