Tubo de processo de difusão de carbeto de silício (SiC)

Tubo de processo de difusão de carbeto de silício (SiC)

Tubos de forno de difusão de carboneto de silícioSão componentes essenciais utilizados em semicondutores, tratamento térmico em altas temperaturas e processos de preparação de materiais. São usados ​​principalmente como suporte e câmara de reação para fornos de difusão ou fornos de oxidação, realizando processos como reação atmosférica, oxidação, difusão e recozimento em ambientes altamente corrosivos e de alta temperatura.
A VET Energy é especializada no projeto e fabricação de tubos de carbeto de silício (SiC) para aplicações em semicondutores de alta temperatura e ambientes corrosivos. Com instalações de produção avançadas e tecnologias proprietárias de CVD e sinterização, fornecemos tubos que apresentam excelente estabilidade térmica, resistência à oxidação e longa vida útil.

Vantagens dos tubos de SiC da VET Energy:

Pureza Ultra-Alta:Produzido através de um processo especial de sinterização, as impurezas metálicas nocivas (como Na, K, Fe e Al) são reduzidas ao nível de ppb.
Emissão de gases extremamente baixa:Em ambientes de alta temperatura e alto vácuo, a desgaseificação é muito menor do que a do quartzo, prevenindo eficazmente a contaminação da câmara de processo, garantindo a qualidade intrínseca dos filmes finos depositados ou do crescimento de cristais e melhorando significativamente o rendimento do produto (especialmente crítico para epitaxia de SiC, crescimento de GaN e produção de silício monocristalino de alta qualidade).
Estabilidade em altas temperaturas:É possível operar a longo prazo em temperaturas superiores a 1600 °C (bem acima do ponto de amolecimento do quartzo, aproximadamente 1200 °C), e em curtos períodos, o dispositivo pode suportar temperaturas ainda mais elevadas (como 1800 °C), atendendo aos requisitos de temperatura ultra-alta dos semicondutores de terceira geração e dos processos de crescimento de cristais.
Resistência à corrosão química:Altamente resistente a gases altamente corrosivos como HCl, Cl₂ e HF, bem como a silício fundido e vapor metálico, mantendo a integridade estrutural e o acabamento superficial em atmosferas complexas como CVD, difusão, oxidação e corrosão, com uma vida útil muito superior à dos tubos de quartzo para fornos.
Excelente condutividade térmica:Sua condutividade térmica é dezenas de vezes maior que a do quartzo, permitindo uma distribuição de temperatura mais rápida e uniforme no forno, além de melhorar a uniformidade e a repetibilidade do processo. Isso é particularmente importante para o processamento de grandes áreas com múltiplos wafers (por exemplo, fornos de difusão fotovoltaica e reatores MOCVD).
Estabilidade Dimensional:Seu coeficiente de expansão térmica extremamente baixo garante que o tubo do forno mantenha uma geometria altamente estável mesmo quando submetido a flutuações de temperatura repetidas e drásticas, evitando falhas na vedação ou concentração de tensão causadas pela expansão e contração térmica.
Durabilidade:Sua elevada dureza e resistência conferem ao tubo do forno excelentes propriedades mecânicas, tornando-o resistente à deformação e a danos.

Aplicação típica:

Fabricação de semicondutores:Crescimento epitaxial de SiC/GaN (MOCVD, HTCVD), epitaxia baseada em silício, difusão/oxidação/recocimento em alta temperatura (RTP) e LPCVD.

Indústria fotovoltaica:Difusão em alta temperatura (difusão de fósforo/boro) e recozimento de células solares de silício cristalino.