د سیلیکون کاربایډ SiC خپریدو پروسې ټیوب

د سیلیکون کاربایډ SiC خپریدو پروسې ټیوب

د سیلیکون کاربایډ خپریدو فرنس ټیوبونههغه مهمې برخې دي چې په سیمیکمډکټر، د لوړې تودوخې تودوخې درملنې، او د موادو چمتو کولو پروسو کې کارول کیږي. دوی په عمده توګه د خپریدو فرنسونو یا اکسیډیشن فرنسونو لپاره د ملاتړ او عکس العمل چیمبر په توګه کارول کیږي، د لوړې تودوخې، خورا زنګ لرونکي چاپیریال کې د اتموسفیر عکس العمل، اکسیډیشن، خپریدو او انیل کولو په څیر پروسې ترسره کوي.
VET انرژي د لوړ تودوخې او زنګ وهونکي سیمیکمډکټر غوښتنلیکونو لپاره د سیلیکون کاربایډ (SiC) ټیوبونو ډیزاین او تولید کې تخصص لري. د پرمختللي تولید اسانتیاوو او ملکیتي CVD او سینټرینګ ټیکنالوژیو سره، موږ داسې ټیوبونه وړاندې کوو چې غوره حرارتي ثبات، اکسیډیشن مقاومت، او اوږد خدمت ژوند لري.

د VET انرژۍ د SiC ټیوبونو ګټې:

ډېر لوړ پاکوالی:د ځانګړي سینټرینګ پروسې په کارولو سره تولید شوي، زیان رسونکي فلزات (لکه Na، K، Fe، او Al) د ppb کچې ته راټیټیږي.
ډېر کم ګاز ایستل:د لوړې تودوخې، لوړ خلا چاپیریال لاندې، د ګازو ایستل د کوارټز په پرتله خورا ټیټ دي، په مؤثره توګه د پروسې چیمبر ککړتیا مخه نیسي، د زیرمه شوي پتلو فلمونو یا کرسټال ودې داخلي کیفیت ډاډمن کوي، او د محصول حاصلات د پام وړ ښه کوي (په ځانګړي توګه د SiC ایپیټیکسي، GaN ودې، او لوړ پای واحد کرسټال سیلیکون تولید لپاره خورا مهم دي).
د لوړې تودوخې ثبات:د اوږدې مودې عملیاتي تودوخې د ۱۶۰۰ درجو سانتي ګراد څخه پورته (د کوارټز د نرموالي نقطې څخه پورته، نږدې ۱۲۰۰ درجو سانتي ګراد) ممکن دي، او لنډمهاله تودوخې حتی لوړې تودوخې (لکه ۱۸۰۰ درجو سانتي ګراد) سره مقاومت کولی شي، د دریم نسل سیمیکمډکټرونو او کرسټال ودې پروسو د خورا لوړ تودوخې اړتیاوې پوره کوي.
د کیمیاوي زنګ وهلو مقاومت:د HCl، Cl₂، او HF په څېر د ډېر زنګ وهونکو ګازونو، او همدارنګه د پړسوب شوي سیلیکون او فلزي بخاراتو په وړاندې خورا مقاومت لري، د CVD، خپریدو، اکسیډیشن، او ایچنګ په څیر پیچلي اتموسفیر کې ساختماني بشپړتیا او سطحي پایښت ساتي، د ژوند موده یې د کوارټز فرنس ټیوبونو څخه ډیره ده.
غوره حرارتي چالکتیا:د دې حرارتي چالکتیا د کوارټز په پرتله لسګونه ځله زیاته ده، چې د فرنس د تودوخې ګړندۍ او یوشان ویش فعالوي او د پروسې یووالي او تکرار وړتیا ښه کوي. دا په ځانګړي ډول د لوی ساحې، څو ویفر پروسس کولو لپاره خورا مهم دی (د مثال په توګه، فوتوولټیک ډیفیوژن فرنسونه او MOCVD ریکټورونه).
ابعادي ثبات:د تودوخې پراخېدو خورا ټیټ ضریب ډاډ ورکوي چې د فرنس ټیوب خورا باثباته جیومیټري ساتي حتی کله چې د تودوخې تکرار او سخت بدلونونو سره مخ وي، د مهر ناکامۍ یا د تودوخې پراخېدو او انقباض له امله د فشار غلظت مخه نیسي.
دوام:د هغې لوړه سختۍ او ځواک د فرنس ټیوب ته غوره میخانیکي ځانګړتیاوې ورکوي، چې دا د خرابوالي او زیان په وړاندې مقاومت کوي.

عادي غوښتنلیک:

د سیمیکمډکټر تولید:د SiC/GaN اپیتیکسیل وده (MOCVD، HTCVD)، د سیلیکون پر بنسټ اپیتیکسي، د لوړې تودوخې خپریدل/اکسیډیشن/انیلینګ (RTP)، او LPCVD.

د فوتوولټیک صنعت:د لوړې تودوخې خپریدل (فاسفورس/بوران خپریدل) او د کرسټالین سیلیکون لمریز حجرو انیل کول.