Siliciumcarbid-SiC-Diffusionsprozessrohr

Siliciumcarbid-SiC-Diffusionsprozessrohr

Siliciumcarbid-DiffusionsofenrohreSie sind Schlüsselkomponenten in der Halbleiterindustrie, bei Hochtemperatur-Wärmebehandlungen und in der Materialherstellung. Hauptsächlich dienen sie als Träger und Reaktionskammer für Diffusions- oder Oxidationsöfen, in denen Prozesse wie atmosphärische Reaktion, Oxidation, Diffusion und Glühen in hochtemperierten und stark korrosiven Umgebungen durchgeführt werden.
VET Energy ist spezialisiert auf die Entwicklung und Herstellung von Siliziumkarbid (SiC)-Röhren für Hochtemperatur- und korrosive Halbleiteranwendungen. Mit fortschrittlichen Produktionsanlagen und firmeneigenen CVD- und Sintertechnologien liefern wir Röhren, die sich durch hervorragende thermische Stabilität, Oxidationsbeständigkeit und lange Lebensdauer auszeichnen.

Vorteile der SiC-Röhren von VET Energy:

Ultrahohe Reinheit:Durch ein spezielles Sinterverfahren werden schädliche Metallverunreinigungen (wie Na, K, Fe und Al) auf den ppb-Bereich reduziert.
Extrem geringe Ausgasung:Unter Hochtemperatur- und Hochvakuumbedingungen ist die Ausgasung deutlich geringer als bei Quarz, wodurch eine Kontamination der Prozesskammer wirksam verhindert, die intrinsische Qualität der abgeschiedenen Dünnschichten oder des Kristallwachstums sichergestellt und die Produktausbeute signifikant verbessert wird (besonders wichtig für die SiC-Epitaxie, das GaN-Wachstum und die Herstellung von hochwertigem einkristallinem Silizium).
Hochtemperaturstabilität:Langfristige Betriebstemperaturen von über 1600 °C (weit über dem Erweichungspunkt von Quarz, etwa 1200 °C) sind möglich, und kurzfristige Temperaturen können sogar noch höheren Temperaturen (wie z. B. 1800 °C) standhalten, wodurch die Anforderungen an ultrahohe Temperaturen von Halbleitern der dritten Generation und Kristallwachstumsprozessen erfüllt werden.
Chemische Korrosionsbeständigkeit:Sie sind hochresistent gegen stark korrosive Gase wie HCl, Cl₂ und HF sowie gegen geschmolzenes Silizium und Metalldampf und behalten ihre strukturelle Integrität und Oberflächenbeschaffenheit auch in komplexen Atmosphären wie CVD, Diffusion, Oxidation und Ätzung bei. Ihre Lebensdauer übertrifft die von Quarzofenrohren bei Weitem.
Hervorragende Wärmeleitfähigkeit:Seine Wärmeleitfähigkeit ist um ein Vielfaches höher als die von Quarz, was eine schnellere und gleichmäßigere Temperaturverteilung im Ofen ermöglicht und die Prozessgleichmäßigkeit und -reproduzierbarkeit verbessert. Dies ist besonders wichtig für die großflächige Verarbeitung mehrerer Wafer (z. B. in Photovoltaik-Diffusionsöfen und MOCVD-Reaktoren).
Dimensionsstabilität:Durch den extrem niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten wird sichergestellt, dass das Ofenrohr auch bei wiederholten und drastischen Temperaturschwankungen eine hochstabile Geometrie beibehält, wodurch ein Versagen der Dichtung oder eine Spannungskonzentration aufgrund von Wärmeausdehnung und -kontraktion verhindert wird.
Haltbarkeit:Durch seine hohe Härte und Festigkeit besitzt das Ofenrohr ausgezeichnete mechanische Eigenschaften und ist widerstandsfähig gegen Verformung und Beschädigung.

Typische Anwendung:

Halbleiterfertigung:SiC/GaN-Epitaxie (MOCVD, HTCVD), Silizium-basierte Epitaxie, Hochtemperaturdiffusion/Oxidation/Temperung (RTP) und LPCVD.

Photovoltaikindustrie:Hochtemperaturdiffusion (Phosphor-/Bordiffusion) und Temperung von kristallinen Siliziumsolarzellen.