Kísilkarbíð SiC dreifingarferlisrör

Kísilkarbíð SiC dreifingarferlisrör

Kísilkarbíð dreifingarofnröreru lykilþættir sem notaðir eru í hálfleiðurum, háhitameðferð og efnisframleiðsluferlum. Þeir eru aðallega notaðir sem stuðnings- og hvarfhólf fyrir dreifiofna eða oxunarofna, þar sem þeir framkvæma ferla eins og andrúmsloftshvarf, oxun, dreifingu og glæðingu í háhita, mjög tærandi umhverfi.
VET Energy sérhæfir sig í hönnun og framleiðslu á kísilkarbíði (SiC) rörum fyrir notkun í hálfleiðurum sem þola háan hita og eru tærandi. Með háþróaðri framleiðsluaðstöðu og sérhæfðri CVD og sintrunartækni afhendum við rör sem eru með framúrskarandi hitastöðugleika, oxunarþol og langan líftíma.

Kostir SiC röra frá VET Energy:

Mjög mikil hreinleiki:Framleitt með sérstakri sintrunaraðferð eru skaðleg óhreinindi úr málmum (eins og Na, K, Fe og Al) minnkuð niður í ppb-stig.
Mjög lítil útblástur:Við hátt hitastig og hátt lofttæmi er útgasun mun minni en hjá kvarsi, sem kemur í veg fyrir mengun í vinnsluklefanum, tryggir eðlislæga gæði þunnfilma eða kristallavaxtar og bætir verulega afurðaafköst (sérstaklega mikilvægt fyrir SiC-epitaxíu, GaN-vöxt og framleiðslu á hágæða einkristalla kísill).
Stöðugleiki við háan hita:Langtíma rekstrarhitastig yfir 1600°C (vel yfir mýkingarmarki kvars, um það bil 1200°C) er mögulegt og skammtíma hitastig þolir enn hærra hitastig (eins og 1800°C) og uppfyllir þannig kröfur þriðju kynslóðar hálfleiðara og kristallavaxtarferla um afar háan hita.
Þol gegn efnafræðilegri tæringu:Mjög þolið gegn mjög ætandi lofttegundum eins og HCl, Cl₂ og HF, sem og bráðnu kísilli og málmgufu, og viðheldur byggingarheild og yfirborðsáferð í flóknum andrúmsloftum eins og CVD, dreifingu, oxun og etsun, með líftíma sem er langt umfram líftíma kvarsofnröra.
Frábær varmaleiðni:Varmaleiðni þess er tugum sinnum meiri en kvars, sem gerir kleift að dreifa hitastigi í ofni hraðar og jafnari og eykur einsleitni og endurtekningarhæfni ferla. Þetta er sérstaklega mikilvægt fyrir stórar vinnslur með mörgum skífum (t.d. ljósorkuofna og MOCVD hvarfefni).
Stöðugleiki í vídd:Mjög lágur varmaþenslustuðullinn tryggir að ofnrörið viðheldur mjög stöðugri lögun, jafnvel þegar það verður fyrir endurteknum og miklum hitasveiflum, sem kemur í veg fyrir bilun í þéttingu eða spennuþenslu af völdum varmaþenslu og samdráttar.
Ending:Mikil hörku og styrkur ofnrörsins gefa því framúrskarandi vélræna eiginleika, sem gerir það ónæmt fyrir aflögun og skemmdum.

Dæmigert forrit:

Framleiðsla hálfleiðara:SiC/GaN epitaxialvöxtur (MOCVD, HTCVD), kísill-byggð epitaxi, háhitadreifing/oxun/glæðing (RTP) og LPCVD.

Ljósvirkjunariðnaður:Háhitadreifing (fosfór/bórdreifing) og glæðing kristallaðra kísilsólarsella.