Tub de proces de difuzie SiC din carbură de siliciu

Tub de proces de difuzie SiC din carbură de siliciu

Tuburi de cuptor de difuzie din carbură de siliciusunt componente cheie utilizate în procesele de semiconductori, tratament termic la temperatură înaltă și preparare a materialelor. Sunt utilizate în principal ca suport și cameră de reacție pentru cuptoarele de difuzie sau cuptoarele de oxidare, efectuând procese precum reacția atmosferică, oxidarea, difuzia și recoacerea în medii cu temperatură înaltă și corozive.
VET Energy este specializată în proiectarea și fabricarea de tuburi din carbură de siliciu (SiC) pentru aplicații semiconductori corozivi și la temperaturi ridicate. Cu facilități de producție avansate și tehnologii CVD și sinterizare proprietare, livrăm tuburi care prezintă o stabilitate termică excelentă, rezistență la oxidare și o durată lungă de viață.

Avantajele tuburilor SiC de la VET Energy:

Puritate ultra-înaltă:Produs printr-un proces special de sinterizare, impuritățile metalice dăunătoare (cum ar fi Na, K, Fe și Al) sunt reduse la nivelul ppb.
Degazare extrem de redusă:În medii cu temperaturi ridicate și vid ridicat, degazarea este mult mai mică decât cea a cuarțului, prevenind eficient contaminarea camerei de proces, asigurând calitatea intrinsecă a peliculelor subțiri depuse sau a creșterii cristalelor și îmbunătățind semnificativ randamentul produsului (în special pentru epitaxia SiC, creșterea GaN și producția de siliciu monocristalin de înaltă calitate).
Stabilitate la temperaturi ridicate:Sunt posibile temperaturi de funcționare pe termen lung care depășesc 1600°C (mult peste punctul de înmuiere al cuarțului, aproximativ 1200°C), iar temperaturile pe termen scurt pot rezista la temperaturi chiar mai ridicate (cum ar fi 1800°C), îndeplinind cerințele de temperatură ultra-înaltă ale semiconductorilor de a treia generație și ale proceselor de creștere a cristalelor.
Rezistență la coroziune chimică:Foarte rezistent la gaze extrem de corozive, cum ar fi HCl, Cl₂ și HF, precum și la siliciu topit și vapori metalici, menținând integritatea structurală și finisajul suprafeței în atmosfere complexe, cum ar fi CVD, difuzie, oxidare și gravare, cu o durată de viață mult mai mare decât cea a tuburilor de cuptor cu cuarț.
Conductivitate termică excelentă:Conductivitatea sa termică este de zeci de ori mai mare decât cea a cuarțului, permițând o distribuție mai rapidă și mai uniformă a temperaturii în cuptor și îmbunătățind uniformitatea și repetabilitatea procesului. Acest lucru este deosebit de important pentru procesarea pe suprafețe mari, cu mai multe plachete (de exemplu, cuptoare fotovoltaice de difuzie și reactoare MOCVD).
Stabilitate dimensională:Coeficientul său extrem de scăzut de dilatare termică asigură menținerea unei geometrii extrem de stabile a tubului cuptorului chiar și atunci când este supus unor fluctuații repetate și drastice de temperatură, prevenind defectarea etanșării sau concentrarea stresului cauzată de dilatarea și contracția termică.
Durabilitate:Duritatea și rezistența sa ridicată conferă tubului de cuptor proprietăți mecanice excelente, făcându-l rezistent la deformare și deteriorare.

Aplicație tipică:

Fabricarea semiconductorilor:Creștere epitaxială SiC/GaN (MOCVD, HTCVD), epitaxie pe bază de siliciu, difuzie/oxidare/recoacere la temperatură înaltă (RTP) și LPCVD.

Industria fotovoltaică:Difuzia la temperatură înaltă (difuzia fosfor/bor) și recoacerea celulelor solare din siliciu cristalin.