Supportu di wafer in grafite PECVD

U supportu di wafer di grafite per u prucessu PECVD di VET Energy hè un consumabile principale cuncipitu per u prucessu PECVD (deposizione chimica da vapore migliorata da plasma). Stu pruduttu hè fattu di materiale di grafite di alta purezza è alta densità, cù una eccellente resistenza à e alte temperature, resistenza à a corrosione, stabilità dimensionale è altre caratteristiche, pò furnisce una piattaforma di supportu stabile per u prucessu PECVD, per assicurà l'uniformità è a planarità di a deposizione di u film.

U disignu di "supportu di grafite" di u supportu di wafer di grafite VET Energy ùn pò micca solu sustene efficacemente u wafer, ma ancu furnisce stabilità termica in l'ambiente PECVD à alta temperatura è alta pressione per assicurà a stabilità di u prucessu.

U supportu di wafer di grafite di u prucessu PECVD di VET Energy hà e seguenti caratteristiche:

▪Alta purezza:cuntenutu d'impurità estremamente bassu, evite a contaminazione di u filmu, per assicurà a qualità di u filmu.

▪Alta densità:alta densità, alta resistenza meccanica, pò sustene l'ambiente PECVD à alta temperatura è à alta pressione.

▪Bona stabilità dimensionale:picculi cambiamenti dimensionali à alta temperatura per assicurà a stabilità di u prucessu.

▪Eccellente conducibilità termica:trasferisce efficacemente u calore per impedisce u surriscaldamentu di a cialda.

▪Forte resistenza à a corrosione:Capaci di resiste à l'erosione da diversi gasi corrosivi è plasma.

▪Serviziu persunalizatu:I tavuli di supportu in grafite di diverse dimensioni è forme ponu esse persunalizati secondu i bisogni di i clienti.