PECVD გრაფიტის ვაფლის საყრდენი

მოკლე აღწერა:

VET Energy-ის გრაფიტის ვაფლის საყრდენი, რომელიც შექმნილია სიზუსტისა და შესრულებისთვის, იდეალური მასალაა ვაფლის მოწინავე დამუშავებისთვის, სადაც მაღალი თერმული სტაბილურობა და თანმიმდევრული შესრულება კრიტიკულად მნიშვნელოვანია. ნახევარგამტარული ვაფლების თუ სხვა დელიკატური სუბსტრატების გამოყენების შემთხვევაში, ეს მაღალი ხარისხის გრაფიტის საყრდენი გაზრდის თქვენი პროცესის საიმედოობას და პროდუქტის ხარისხს, რაც მას თანამედროვე წარმოების შეუცვლელ კომპონენტად აქცევს.

გამოგვიგზავნეთ ელ.წერილი ჩამოტვირთეთ PDF ფორმატში

პროდუქტის დეტალები

პროდუქტის ტეგები

VET Energy PECVD პროცესის გრაფიტის ვაფლის საყრდენი არის ძირითადი სახარჯი მასალა, რომელიც შექმნილია PECVD (პლაზმით გაძლიერებული ქიმიური ორთქლის დეპონირების) პროცესისთვის. ეს პროდუქტი დამზადებულია მაღალი სისუფთავის, მაღალი სიმკვრივის გრაფიტის მასალისგან, გამოირჩევა შესანიშნავი მაღალი ტემპერატურისადმი გამძლეობით, კოროზიისადმი მდგრადობით, განზომილებიანი სტაბილურობით და სხვა მახასიათებლებით, რაც უზრუნველყოფს სტაბილურ საყრდენ პლატფორმას PECVD პროცესისთვის, რათა უზრუნველყოს ფირის დეპონირების ერთგვაროვნება და სიბრტყე.

VET Energy-ის გრაფიტის ვაფლის საყრდენის „გრაფიტის საყრდენის“ დიზაინი არა მხოლოდ ეფექტურად უჭერს მხარს ვაფლს, არამედ უზრუნველყოფს თერმულ სტაბილურობას მაღალი ტემპერატურისა და მაღალი წნევის PECVD გარემოში, რათა უზრუნველყოფილი იყოს პროცესის სტაბილურობა.

VET Energy PECVD პროცესის გრაფიტის ვაფლის საყრდენს აქვს შემდეგი მახასიათებლები:

▪მაღალი სისუფთავე:უკიდურესად დაბალი მინარევების შემცველობა, ფირის დაბინძურების თავიდან ასაცილებლად, ფირის ხარისხის უზრუნველსაყოფად.

▪მაღალი სიმკვრივე:მაღალი სიმკვრივე, მაღალი მექანიკური სიმტკიცე, უძლებს მაღალ ტემპერატურას და მაღალი წნევის PECVD გარემოს.

▪კარგი განზომილებიანი სტაბილურობა:მცირე განზომილებიანი ცვლილებები მაღალ ტემპერატურაზე პროცესის სტაბილურობის უზრუნველსაყოფად.

▪შესანიშნავი თბოგამტარობა:ეფექტურად გადასცემს სითბოს ვაფლის გადახურების თავიდან ასაცილებლად.

▪ძლიერი კოროზიის წინააღმდეგობა:შეუძლია წინააღმდეგობა გაუწიოს სხვადასხვა კოროზიული აირებისა და პლაზმური ეროზიის მიმართ.

▪მორგებული მომსახურება:სხვადასხვა ზომისა და ფორმის გრაფიტის საყრდენი მაგიდების მორგება შესაძლებელია მომხმარებლის საჭიროებების შესაბამისად.

SGL-ის გრაფიტის მასალა:

ტიპიური პარამეტრი: R6510
ინდექსი	ტესტის სტანდარტი	ღირებულება	ერთეული
საშუალო მარცვლის ზომა	ISO 13320	10	მკმ
მოცულობითი სიმკვრივე	DIN IEC 60413/204	1.83	გ/სმ³
ღია ფორიანობა	DIN66133	10	%
საშუალო ფორების ზომა	DIN66133	1.8	მკმ
გამტარობა	DIN 51935	0.06	სმ²/წმ
როკველის სიმტკიცე HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
სპეციფიკური ელექტრული წინაღობა	DIN IEC 60413/402	13	μΩმ
მოხრის სიმტკიცე	DIN IEC 60413/501	60	მპა
შეკუმშვის სიმტკიცე	DIN 51910	130	მპა
იანგის მოდული	DIN 51915	11.5×10³	მპა
თერმული გაფართოება (20-200℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
თბოგამტარობა (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

ის სპეციალურად შექმნილია მაღალი ეფექტურობის მზის უჯრედების წარმოებისთვის, რომელიც მხარს უჭერს G12 დიდი ზომის ვაფლის დამუშავებას. ოპტიმიზებული მატარებლის დიზაინი მნიშვნელოვნად ზრდის გამტარუნარიანობას, რაც უზრუნველყოფს უფრო მაღალ მოსავლიანობას და წარმოების ხარჯების შემცირებას.

ნივთი	ტიპი	ვაფლის მატარებელი ნომერი
PEVCD გრეფიტის ნავი - 156 სერია	156-13 გრეფიტის ნავი	144
	156-19 გრეფიტის ნავი	216
	156-21 გრეფიტის ნავი	240
	156-23 გრაფიტის ნავი	308
PEVCD გრეფიტის ნავი - 125 სერია	125-15 გრეფიტის ნავი	196
	125-19 გრეფიტის ნავი	252
	125-21 გრაფიტის ნავი	280