ការគាំទ្រ PECVD Graphite Wafer

ដំណើរការ PECVD ថាមពល PECVD ការគាំទ្រក្រាហ្វិច wafer គឺជាការប្រើប្រាស់ស្នូលដែលត្រូវបានរចនាឡើងសម្រាប់ដំណើរការ PECVD (ប្លាស្មាបង្កើនការបំភាយចំហាយគីមី) ។ ផលិតផលនេះត្រូវបានផលិតឡើងពីវត្ថុធាតុក្រាហ្វិចដែលមានភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ ធន់នឹងសីតុណ្ហភាពខ្ពស់ ធន់នឹងការច្រេះ ស្ថេរភាពវិមាត្រ និងលក្ខណៈផ្សេងទៀត អាចផ្តល់នូវវេទិកាគាំទ្រដែលមានស្ថេរភាពសម្រាប់ដំណើរការ PECVD ដើម្បីធានាបាននូវឯកសណ្ឋាននិងភាពរាបស្មើនៃស្រទាប់ខ្សែភាពយន្ត។

ការរចនា "ការគាំទ្រក្រាហ្វិច" នៃការគាំទ្រ wafer ក្រាហ្វិចរបស់ VET Energy មិនត្រឹមតែអាចទ្រទ្រង់ wafer យ៉ាងមានប្រសិទ្ធភាពប៉ុណ្ណោះទេ ប៉ុន្តែថែមទាំងផ្តល់នូវស្ថេរភាពកម្ដៅនៅក្នុងបរិយាកាស PECVD សីតុណ្ហភាពខ្ពស់ និងសម្ពាធខ្ពស់ ដើម្បីធានាបាននូវស្ថេរភាពនៃដំណើរការ។

ដំណើរការ VET Energy PECVD ការគាំទ្រ wafer ក្រាហ្វិចមានលក្ខណៈដូចខាងក្រោមៈ

▪ភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់៖មាតិកាមិនបរិសុទ្ធទាបបំផុត ជៀសវាងការចម្លងរោគនៃខ្សែភាពយន្ត ដើម្បីធានាគុណភាពនៃខ្សែភាពយន្ត។

▪ដង់ស៊ីតេខ្ពស់៖ដង់ស៊ីតេខ្ពស់កម្លាំងមេកានិចខ្ពស់អាចទប់ទល់នឹងសីតុណ្ហភាពខ្ពស់និងសម្ពាធខ្ពស់បរិស្ថាន PECVD ។

▪ស្ថេរភាពវិមាត្រល្អ៖ការផ្លាស់ប្តូរវិមាត្រតូចនៅសីតុណ្ហភាពខ្ពស់ដើម្បីធានាបាននូវស្ថេរភាពនៃដំណើរការ។

▪ចរន្តកំដៅដ៏អស្ចារ្យ៖ផ្ទេរកំដៅប្រកបដោយប្រសិទ្ធភាពដើម្បីការពារការឡើងកំដៅរបស់ wafer ។

▪ធន់នឹងច្រេះខ្លាំង៖អាចទប់ទល់នឹងសំណឹកដោយឧស្ម័ន corrosive និងប្លាស្មា។

▪សេវាកម្មប្ដូរតាមបំណង៖តារាងជំនួយក្រាហ្វិចដែលមានទំហំ និងរាងខុសៗគ្នាអាចប្ដូរតាមតម្រូវការរបស់អតិថិជន។