Supporto per wafer in grafite PECVD

Breve descrizione:

Progettato per garantire precisione e prestazioni elevate, il supporto per wafer in grafite di VET Energy è il materiale ideale per l'utilizzo nella lavorazione avanzata dei wafer, dove elevata stabilità termica e prestazioni costanti sono fondamentali. Che si lavori con wafer semiconduttori o altri substrati delicati, questo supporto in grafite di alta qualità migliorerà l'affidabilità del processo e la qualità del prodotto, rendendolo un componente indispensabile per la produzione moderna.

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Il supporto per wafer in grafite per il processo PECVD di VET Energy è un materiale di consumo di base progettato per il processo PECVD (deposizione chimica da vapore potenziata al plasma). Questo prodotto è realizzato in grafite ad alta purezza e densità, con eccellenti caratteristiche di resistenza alle alte temperature, resistenza alla corrosione, stabilità dimensionale e altre caratteristiche, e può fornire una piattaforma di supporto stabile per il processo PECVD, garantendo l'uniformità e la planarità della deposizione del film.

Il design del "supporto in grafite" del supporto per wafer in grafite di VET Energy non solo supporta efficacemente il wafer, ma garantisce anche stabilità termica nell'ambiente PECVD ad alta temperatura e alta pressione per garantire la stabilità del processo.

Il supporto per wafer in grafite del processo PECVD di VET Energy presenta le seguenti caratteristiche:

▪Elevata purezza:contenuto di impurità estremamente basso, evita la contaminazione della pellicola, per garantirne la qualità.

▪Alta densità:elevata densità, elevata resistenza meccanica, può sopportare alte temperature e alte pressioni in ambienti PECVD.

▪Buona stabilità dimensionale:piccole variazioni dimensionali ad alta temperatura per garantire la stabilità del processo.

▪Ottima conduttività termica:trasferire efficacemente il calore per evitare il surriscaldamento del wafer.

▪Elevata resistenza alla corrosione:In grado di resistere all'erosione causata da vari gas corrosivi e plasma.

▪Servizio personalizzato:Tavoli di supporto in grafite di diverse dimensioni e forme possono essere personalizzati in base alle esigenze del cliente.

Materiale in grafite di SGL:

Parametro tipico: R6510
Indice	Standard di prova	Valore	Unità
Granulometria media	Norma ISO 13320	10	micron
Densità apparente	Norma DIN IEC 60413/204	1.83	g/cm³
porosità aperta	DIN66133	10	%
Pori di media grandezza	DIN66133	1.8	micron
Permeabilità	DIN 51935	0,06	cm²/s
Durezza Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Resistività elettrica specifica	Norma DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Resistenza alla flessione	Norma DIN IEC 60413/501	60	MPa
Resistenza alla compressione	DIN 51910	130	MPa
Modulo di Young	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Espansione termica (20-200℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
Conduttività termica (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

È specificamente progettato per la produzione di celle solari ad alta efficienza, supportando la lavorazione di wafer di grandi dimensioni G12. Il design ottimizzato del supporto aumenta significativamente la produttività, consentendo rendimenti più elevati e costi di produzione inferiori.

Articolo	Tipo	Numero di wafer portante
Barca Grephite PEVCD - La serie 156	156-13 barca di grefite	144
	156-19 barca di grefite	216
	156-21 barca di grefite	240
	156-23 barca in grafite	308
Barca Grephite PEVCD - La serie 125	Barca grefite 125-15	196
	Barca grefita 125-19	252
	Barca in carbonio 125-21	280