PECVD-Graphit-Wafer-Unterstützung

Kurze Beschreibung:

Der auf Präzision und Leistung ausgelegte Graphit-Wafer-Träger von VET Energy ist das ideale Material für die fortschrittliche Waferverarbeitung, bei der hohe thermische Stabilität und konstante Leistung entscheidend sind. Ob Sie mit Halbleiter-Wafern oder anderen empfindlichen Substraten arbeiten, dieser hochwertige Graphit-Träger verbessert Ihre Prozesssicherheit und Produktqualität und ist damit ein unverzichtbarer Bestandteil der modernen Fertigung.

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Produktdetail

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Der Graphit-Waferträger von VET Energy für den PECVD-Prozess ist ein Kernverbrauchsmaterial für den PECVD-Prozess (plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung). Dieses Produkt besteht aus hochreinem, hochdichtem Graphitmaterial mit ausgezeichneter Temperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Dimensionsstabilität und weiteren Eigenschaften. Es bietet eine stabile Trägerplattform für den PECVD-Prozess und gewährleistet die Gleichmäßigkeit und Ebenheit der Filmabscheidung.

Das „Graphit-Support“-Design des Graphit-Wafer-Supports von VET Energy kann den Wafer nicht nur effektiv stützen, sondern bietet auch thermische Stabilität in der PECVD-Umgebung mit hohen Temperaturen und hohem Druck, um die Stabilität des Prozesses sicherzustellen.

Der Graphit-Waferträger des PECVD-Prozesses von VET Energy weist die folgenden Eigenschaften auf:

▪Hohe Reinheit:extrem niedriger Verunreinigungsgehalt, um eine Verunreinigung des Films zu vermeiden und die Qualität des Films sicherzustellen.

▪Hohe Dichte:hohe Dichte, hohe mechanische Festigkeit, hält hohen Temperaturen und hohem Druck in PECVD-Umgebungen stand.

▪Gute Dimensionsstabilität:kleine Maßänderungen bei hohen Temperaturen, um die Stabilität des Prozesses zu gewährleisten.

▪Hervorragende Wärmeleitfähigkeit:Übertragen Sie die Wärme effektiv, um eine Überhitzung des Wafers zu verhindern.

▪Starke Korrosionsbeständigkeit:Kann der Erosion durch verschiedene korrosive Gase und Plasma widerstehen.

▪Maßgeschneiderter Service:Graphit-Auflagetische in verschiedenen Größen und Formen können entsprechend den Kundenanforderungen individuell angepasst werden.

Graphitwerkstoff von SGL:

Typischer Parameter: R6510
Index	Prüfnorm	Wert	Einheit
Durchschnittliche Korngröße	ISO 13320	10	μm
Schüttdichte	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Offene Porosität	DIN66133	10	%
Mittlere Porengröße	DIN66133	1.8	μm
Permeabilität	DIN 51935	0,06	cm²/s
Rockwellhärte HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Spezifischer elektrischer Widerstand	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Biegefestigkeit	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Druckfestigkeit	DIN 51910	130	MPa
Elastizitätsmodul	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Wärmeausdehnung (20–200 °C)	DIN 51909	4,2 x 10^-6	K^-1
Wärmeleitfähigkeit (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Es wurde speziell für die Herstellung hocheffizienter Solarzellen entwickelt und unterstützt die Verarbeitung großer G12-Wafer. Das optimierte Trägerdesign erhöht den Durchsatz deutlich und ermöglicht höhere Erträge und niedrigere Produktionskosten.

Artikel	Typ	Nummer Waferträger
PEVCD Grephite Boot - Die 156er Serie	156-13 Grephitboot	144
	156-19 Grephitboot	216
	156-21 Grephite-Boot	240
	156-23 Graphitboot	308
PEVCD Grephite Boot - Die 125er Serie	125-15 Grephite-Boot	196
	125-19 Grephite-Boot	252
	125-21 Graphitboot	280