Dukungan Wafer Grafit PECVD

Gambar Unggulan Penyangga Wafer Grafit PECVD

Deskripsi Singkat:

Dirancang untuk presisi dan kinerja, Graphite Wafer Support dari VET Energy adalah material ideal untuk digunakan dalam pemrosesan wafer tingkat lanjut, di mana stabilitas termal tinggi dan kinerja yang konsisten sangat penting. Baik Anda bekerja dengan wafer semikonduktor atau substrat halus lainnya, dukungan grafit berkualitas tinggi ini akan meningkatkan keandalan proses dan kualitas produk Anda, menjadikannya komponen yang sangat diperlukan untuk manufaktur modern.

Kirim email ke kami Unduh sebagai PDF

Detail Produk

Label Produk

Dukungan wafer grafit proses PECVD VET Energy merupakan bahan habis pakai inti yang dirancang untuk proses PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition). Produk ini terbuat dari material grafit dengan kemurnian tinggi dan kepadatan tinggi, dengan ketahanan suhu tinggi, ketahanan korosi, stabilitas dimensi, dan karakteristik lainnya yang sangat baik, dapat menyediakan platform dukungan yang stabil untuk proses PECVD, guna memastikan keseragaman dan kerataan pengendapan film.

Desain "penyangga grafit" dari penyangga wafer grafit VET Energy tidak hanya dapat menyangga wafer secara efektif, tetapi juga memberikan kestabilan termal dalam lingkungan PECVD bersuhu tinggi dan bertekanan tinggi guna memastikan kestabilan proses.

Dukungan wafer grafit proses PECVD VET Energy memiliki karakteristik sebagai berikut:

▪Kemurnian tinggi:kandungan pengotor yang sangat rendah, menghindari kontaminasi film, untuk memastikan kualitas film.

▪Kepadatan tinggi:kepadatan tinggi, kekuatan mekanik tinggi, dapat menahan suhu tinggi dan lingkungan PECVD tekanan tinggi.

▪Stabilitas dimensi yang baik:perubahan dimensi kecil pada suhu tinggi untuk memastikan stabilitas proses.

▪Konduktivitas termal yang sangat baik:mentransfer panas secara efektif untuk mencegah wafer terlalu panas.

▪Ketahanan korosi yang kuat:Mampu menahan erosi oleh berbagai gas korosif dan plasma.

▪Layanan yang disesuaikan:Meja penyangga grafit dengan berbagai ukuran dan bentuk dapat disesuaikan menurut kebutuhan pelanggan.

Bahan grafit dari SGL:

Parameter tipikal: R6510
Indeks	Standar pengujian	Nilai	Satuan
Ukuran butiran rata-rata	Standar ISO13320	10	mikrometer
Kepadatan massal	Standar IEC 60413/204	1.83	gram/cm³
Porositas terbuka	DIN66133	10	%
Ukuran pori sedang	DIN66133	1.8	mikrometer
Permeabilitas	Nomor Seri 51935	0,06	cm²/detik
Kekerasan Rockwell HR5/100	Standar IEC 60413/303	90	HR
Resistivitas listrik spesifik	Standar IEC 60413/402	13	μΩm
Kekuatan lentur	Standar IEC 60413/501	60	MPa
Kekuatan tekan	DIN51910	130	MPa
Modulus Young	Nomor Seri 51915	11,5×10³	MPa
Ekspansi termal (20-200℃)	Nomor Seri 51909	4.2X10^-6	K^-1
Konduktivitas termal (20℃)	DIN51908	105	Wm^-1K^-1

Produk ini secara khusus dirancang untuk produksi sel surya efisiensi tinggi, yang mendukung pemrosesan wafer berukuran besar G12. Desain pembawa yang dioptimalkan secara signifikan meningkatkan hasil produksi, sehingga memungkinkan tingkat hasil yang lebih tinggi dan biaya produksi yang lebih rendah.

Barang	Jenis	Pembawa wafer nomor
Perahu Grephite PEVCD - Seri 156	perahu grefit 156-13	144
	perahu grefit 156-19	216
	perahu grefit 156-21	240
	perahu grafit 156-23	308
Perahu Grephite PEVCD - Seri 125	perahu grefit 125-15	196
	perahu grefit 125-19	252
	perahu grfit 125-21	280