Suporte para wafer de grafite PECVD

Descrição curta:

Projetado para precisão e desempenho, o Suporte de Wafer de Grafite da VET Energy é o material ideal para uso em processamento avançado de wafers, onde alta estabilidade térmica e desempenho consistente são essenciais. Seja trabalhando com wafers semicondutores ou outros substratos delicados, este suporte de grafite de alta qualidade aumentará a confiabilidade do seu processo e a qualidade do produto, tornando-se um componente indispensável para a fabricação moderna.

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Detalhes do produto

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O suporte de wafer de grafite para o processo PECVD da VET Energy é um consumível essencial projetado para o processo PECVD (deposição química de vapor aprimorada por plasma). Este produto é feito de material de grafite de alta pureza e alta densidade, com excelente resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão, estabilidade dimensional e outras características, podendo fornecer uma plataforma de suporte estável para o processo PECVD, garantindo a uniformidade e a planura da deposição do filme.

O design de "suporte de grafite" do suporte de wafer de grafite da VET Energy não só pode dar suporte eficaz ao wafer, mas também fornecer estabilidade térmica no ambiente PECVD de alta temperatura e alta pressão para garantir a estabilidade do processo.

O suporte de wafer de grafite do processo PECVD da VET Energy possui as seguintes características:

▪Alta pureza:teor de impurezas extremamente baixo, evita contaminação do filme, para garantir a qualidade do filme.

▪Alta densidade:alta densidade, alta resistência mecânica, pode suportar altas temperaturas e ambientes de alta pressão PECVD.

▪Boa estabilidade dimensional:pequenas alterações dimensionais em alta temperatura para garantir a estabilidade do processo.

▪Excelente condutividade térmica:transferir calor de forma eficaz para evitar o superaquecimento do wafer.

▪Forte resistência à corrosão:Capaz de resistir à erosão por vários gases corrosivos e plasma.

▪Atendimento personalizado:Mesas de suporte de grafite de diferentes tamanhos e formatos podem ser personalizadas de acordo com as necessidades do cliente.

Material de grafite da SGL:

Parâmetro típico: R6510
Índice	Padrão de teste	Valor	Unidade
Tamanho médio do grão	ISO 13320	10	μm
Densidade aparente	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Porosidade aberta	DIN66133	10	%
Poros de tamanho médio	DIN66133	1.8	μm
Permeabilidade	DIN 51935	0,06	cm²/s
Dureza Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Resistividade elétrica específica	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Resistência à flexão	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Resistência à compressão	DIN 51910	130	MPa
Módulo de Young	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Expansão térmica (20-200℃)	DIN 51909	4,2X10^-6	K^-1
Condutividade térmica (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Ele foi projetado especificamente para a fabricação de células solares de alta eficiência, suportando o processamento de wafers G12 de grande porte. O design otimizado do portador aumenta significativamente a produtividade, permitindo maiores taxas de rendimento e menores custos de produção.

Item	Tipo	Número de portador de wafer
Barco PEVCD Grephite - Série 156	156-13 barco de grefita	144
	156-19 barco de grefita	216
	156-21 barco de grefita	240
	156-23 barco de grafite	308
Barco PEVCD Grephite - Série 125	barco de grefita 125-15	196
	barco de grefita 125-19	252
	barco de grife 125-21	280