PECVD Grafitwafer Ënnerstëtzung

PECVD Grafitwafer Support Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

De Graphit-Wafer-Support vu VET Energy, dee fir Präzisioun a Leeschtung entwéckelt gouf, ass dat ideal Material fir an der fortgeschrattener Waferveraarbechtung ze benotzen, wou eng héich thermesch Stabilitéit a konsequent Leeschtung entscheedend sinn. Egal ob Dir mat Hallefleitwaferen oder aner delikaten Substrater schafft, dësen héichqualitative Graphit-Support verbessert Är Prozesszouverlässegkeet an d'Produktqualitéit a mécht en zu engem onverzichtbaren Deel fir déi modern Produktioun.

Schéckt eis eng E-Mail Als PDF eroflueden

Produktdetailer

Produkt Tags

De VET Energy PECVD Prozess Graphit-Wafer-Support ass e Kärverbrauchsmaterial, dee fir de PECVD (Plasma-enhanced chemical vapor deposition) Prozess entwéckelt gouf. Dëst Produkt ass aus héichreinem, héichdichtem Graphitmaterial gemaach, mat exzellenter Héichtemperaturbeständegkeet, Korrosiounsbeständegkeet, Dimensiounsstabilitéit an aner Charakteristiken, a kann eng stabil Ënnerstëtzungsplattform fir de PECVD Prozess bidden, fir d'Uniformitéit an d'Flaachheet vun der Filmoflagerung ze garantéieren.

Den "Grafitënnerstëtzungs"-Design vum VET Energy Graphitwaferënnerstëtzung kann net nëmmen de Wafer effektiv ënnerstëtzen, mä och thermesch Stabilitéit an der PECVD-Ëmfeld mat héijen Temperaturen an héijem Drock bidden, fir d'Stabilitéit vum Prozess ze garantéieren.

De VET Energy PECVD Prozess Graphit-Wafer-Support huet déi folgend Charakteristiken:

▪Héich Rengheet:extrem niddrege Verunreinigungsgehalt, vermeit Kontaminatioun vum Film, fir d'Qualitéit vum Film ze garantéieren.

▪Héich Dicht:héich Dicht, héich mechanesch Stäerkt, kann héijer Temperatur an héijem Drock PECVD Ëmwelt standhalen.

▪Gud Dimensiounsstabilitéit:kleng Dimensiounsännerungen bei héijer Temperatur fir d'Stabilitéit vum Prozess ze garantéieren.

▪Excellent thermesch Konduktivitéit:effektiv Hëtzt iwwerdroen, fir Iwwerhëtzung vun de Waferen ze vermeiden.

▪Staark Korrosiounsbeständegkeet:Fäeg resistent géint Erosioun duerch verschidde korrosiv Gaser a Plasma.

▪Personaliséierte Service:Grafit-Supportdëscher a verschiddene Gréissten a Formen kënnen no de Bedierfnesser vum Client personaliséiert ginn.

Grafitmaterial vun SGL:

Typesche Parameter: R6510
Index	Teststandard	Wäert	Eenheet
Duerchschnëttlech Kärgréisst	ISO 13320	10	μm
Volumendicht	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm²³
Oppe Porositéit	DIN66133	10	%
Mëttelgrouss Porengréisst	DIN66133	1.8	μm
Permeabilitéit	DIN 51935	0,06	cm²/s
Rockwell-Härkeet HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Spezifesch elektresch Widderstand	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Biegefestigkeit	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Kompressiounsstäerkt	DIN 51910	130	MPa
Young säi Modul	DIN 51915	11,5 × 10³	MPa
Thermesch Expansioun (20-200 ℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
Wärmeleitfäegkeet (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Et ass speziell fir d'Hierstellung vun héicheffiziente Solarzellen entwéckelt ginn, an ënnerstëtzt d'Veraarbechtung vu grousse G12-Waferen. Den optiméierten Trägerdesign erhéicht den Duerchgank däitlech, wat méi héich Rendementer a méi niddreg Produktiounskäschte erméiglecht.

Artikel	Typ	Zuel Wafer Carrier
PEVCD Grephite Boot - Déi 156 Serie	156-13 Grephitboot	144
	156-19 Grephitboot	216
	156-21 Grephitboot	240
	156-23 Grafitboot	308
PEVCD Grephite Boot - Déi 125 Serie	125-15 Grephit Boot	196
	125-19 Grephit Boot	252
	125-21 Grafitboot	280