Rivestimento in SiC/Substrato di grafite rivestito/Vassoio per semiconduttori

Immagine in evidenza: Substrato/Vassoio in grafite rivestito/rivestito in SiC per semiconduttori

Breve descrizione:

Il supporto in grafite rivestito in SiC di VET Energy per la crescita epitassiale è un prodotto ad alte prestazioni progettato per fornire prestazioni costanti e affidabili per un lungo periodo. Vanta un'eccellente resistenza al calore e uniformità termica, elevata purezza e resistenza all'erosione, caratteristiche che lo rendono la soluzione ideale per le applicazioni di lavorazione dei wafer.

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Rivestimento in SiC/rivestito di suscettore in grafite per semiconduttori

ILSubstrato di grafite rivestito in SiCè una soluzione altamente durevole ed efficiente progettata per soddisfare le rigorose esigenze dell'industria di lavorazione dei semiconduttori. Caratterizzata da uno strato di elevata purezzarivestimento in carburo di silicio (SiC)Questo substrato offre un'eccezionale stabilità termica, resistenza all'ossidazione e una lunga durata, risultando ideale per applicazioni nei processi MOCVD, nei supporti per wafer di grafite e in altri ambienti ad alta temperatura.

Caratteristiche:
· Eccellente resistenza agli shock termici
· Eccellente resistenza agli urti fisici
· Eccellente resistenza chimica
· Purezza elevatissima
· Disponibilità in forme complesse
·Utilizzabile in atmosfera ossidante

Applicazione:

Caratteristiche e vantaggi del prodotto:

1. Resistenza termica superiore:Con un'elevata purezzaRivestimento in SiCIl substrato resiste a temperature estreme, garantendo prestazioni costanti in ambienti esigenti come l'epitassia e la fabbricazione di semiconduttori.

2. Maggiore durata:I componenti in grafite rivestiti in SiC sono progettati per resistere alla corrosione chimica e all'ossidazione, aumentando la durata del substrato rispetto ai substrati in grafite standard.

3. Grafite rivestita vetrosa:La struttura vitrea unica delRivestimento in SiCOffre un'eccellente durezza superficiale, riducendo al minimo l'usura durante i processi ad alta temperatura.

4. Rivestimento in SiC ad elevata purezza:Il nostro substrato garantisce una contaminazione minima nei processi di produzione di semiconduttori sensibili, offrendo affidabilità per le industrie che richiedono una purezza dei materiali rigorosa.

5. Ampia applicazione sul mercato:ILsuscettore in grafite rivestito in SiCIl mercato continua a crescere grazie all'aumento della domanda di prodotti avanzati rivestiti in SiC nella produzione di semiconduttori, posizionando questo substrato come un elemento chiave sia nel mercato dei supporti per wafer di grafite che in quello dei vassoi in grafite rivestiti in carburo di silicio.

Proprietà tipiche del materiale base in grafite:

Densità apparente:	1,85 g/cm³
Resistività elettrica:	11 μΩm
Resistenza alla flessione:	49 MPa (500 kgf/cm2)
Durezza Shore:	58
Cenere:	<5 ppm
Conduttività termica:	116 W/mK (100 kcal/mhr-℃)

Malattia cardiovascolare SiC薄膜基本物理性能 Proprietà fisiche di base del SiC CVDrivestimento
性质 / Proprietà	典型数值 / Valore tipico
晶体结构 / Struttura cristallina	Fase β FCC 多晶,主要为（111）取向
密度 / Densità	3,21 g/cm³
硬度 / Durezza	2500 tonnellate di carico (carico di 500 g)
晶粒大小 / Granulometria	2~10μm
纯度 / Purezza chimica	99,99995%
热容 / Capacità termica	640 J·kg^-1·K^-1
升华温度 / Temperatura di sublimazione	2700℃
抗弯强度 / Resistenza alla flessione	415 MPa RT 4 punti
杨氏模量 / Modulo di Young	430 GPa piegatura a 4 punti, 1300℃
导热系数 / Conducibilità termica	300 W·m^-1·K^-1
Dilatazione termica / Dilatazione termica (CTE)	4,5×10^-6K^-1

VET Energy è un produttore affidabile di prodotti personalizzati in grafite e carburo di silicio con diversi rivestimenti, come rivestimento in SiC, rivestimento in TaC, rivestimento in carbonio vetroso, rivestimento in carbonio pirolitico, ecc., e può fornire vari componenti personalizzati per l'industria dei semiconduttori e del fotovoltaico.

Il nostro team tecnico, composto da professionisti provenienti dai migliori istituti di ricerca nazionali, è in grado di offrirvi soluzioni più professionali in termini di materiali.

Sviluppiamo costantemente processi avanzati per fornire materiali sempre più performanti e abbiamo messo a punto una tecnologia brevettata esclusiva in grado di rendere l'adesione tra il rivestimento e il substrato più forte e meno soggetta al distacco.

Vi diamo un caloroso benvenuto a visitare il nostro stabilimento, saremo lieti di discuterne ulteriormente!