Anell de grafit recobert de carbur de tàntal porós

Anell de grafit recobert de carbur de tàntal porós
Grafit recobert de carbur de tàntal porós (TaC)és un material clau desenvolupat específicament per als entorns d'alta temperatura i altament corrosius de la fabricació de semiconductors. El seu substrat és grafit isostàtic d'alta puresa, recobert amb un recobriment de carbur de tàntal uniformement porós mitjançant deposició química de vapor (CVD). El TaC té una duresa extremadament alta (9-10 a l'escala de Mohs) i un punt de fusió de 3880 °C. Combinat amb l'excel·lent estabilitat tèrmica i les propietats lleugeres del grafit, aquest material combina la resistència a altes temperatures amb la resistència a l'atac químic i al xoc tèrmic, convertint-lo en una opció ideal per a equips de procés de semiconductors que operen en condicions extremes.

Avantatges del grafit porós de carbur de tàntal:
1. Resistència a la corrosió ultraalta
El TaC és químicament inert, resistint eficaçment la corrosió dels halògens com el fluor i el clor, cosa que allarga significativament la vida útil dels equips.
-L'estructura porosa augmenta la superfície del recobriment, formant una barrera protectora més robusta i reduint el risc de despreniment de partícules.
2. Excel·lent estabilitat a altes temperatures
-Amb un punt de fusió que s'acosta als 4000 °C, pot funcionar durant períodes prolongats en buit o atmosferes inertes superiors a 2500 °C.
-El coeficient d'expansió tèrmica del recobriment s'ajusta molt al del grafit, evitant l'esquerdament i la delaminació causats pels cicles tèrmics.
3. Alta puresa i baixa contaminació
-Utilitzant matèries primeres i processos de grau semiconductor, el contingut d'impureses metàl·liques és extremadament baix, cosa que redueix significativament el risc de contaminació de les oblies.
-La superfície és densa i químicament estable, cosa que redueix la generació de partícules i compleix els estrictes estàndards de les sales blanques.
4. Disseny personalitzat
Es poden produir formes complexes segons els dibuixos del client, i es pot controlar la porositat i el gruix del recobriment per aconseguir un flux de gas i una conductivitat tèrmica òptims.
5. Llarga vida útil i baix cost de manteniment
La resistència extremadament alta a la corrosió i al desgast dels recobriments porosos de TaC augmenta la vida útil dels components de 3 a 5 vegades en comparació amb el grafit tradicional, cosa que redueix la freqüència de substitució i els costos de manteniment.

Aplicacions principals
1. Components bàsics per a la fabricació de làmines
- Revestiments de cambra de reacció, deflectors i capçal de dutxa per a equips CVD/ALD
- Suports de diana PVD
- Components de procés d'alta temperatura per a difusió, oxidació, recuit i altres processos
2. Sistemes de deposició química de vapor
- Protecció de components clau en ambients altament corrosius (com ara fluorurs i clorurs) durant el procés
3. Altres ambients corrosius d'alta temperatura
- Apte per a la purificació química de gasos, forns de tractament tèrmic especialitzats i altres aplicacions.