Peratra grafita misy tantalum misy lavaka

Peratra grafita misy tantalum misy lavaka
Grafita voarakotra tantalum carbide (TaC) misy lavakadia akora fototra novolavolaina manokana ho an'ny tontolo iainana avo lenta sy manimba be amin'ny famokarana semiconductor. Ny fototra iorenan'ny akora dia grafita isostatika avo lenta, voarakotra amin'ny sosona karbida tantalum mitovy porous amin'ny alàlan'ny fametrahana etona simika (CVD). Ny TaC dia manana hamafin'ny tena avo (9-10 amin'ny maridrefy Mohs) ary teboka fandrendrehana 3880°C. Miaraka amin'ny fahamarinan-toerana mafana tsara an'ny grafita sy ny toetra maivana, ity akora ity dia mampifangaro ny tanjaka mafana avo lenta miaraka amin'ny fanoherana ny fanafihana simika sy ny fahatairana mafana, ka mahatonga azy io ho safidy tsara indrindra ho an'ny fitaovana fanodinana semiconductor miasa amin'ny toe-javatra tafahoatra.

Tombony azo avy amin'ny grafita karbida tantalum misy lavaka kely:
1. Fanoherana ny harafesina avo lenta
-Tsy mihetsika ara-simika ny TaC, mahatohitra tsara ny harafesina avy amin'ny halogens toy ny fluorine sy klôro, ka manalava be ny androm-piainan'ny fitaovana.
-Ny rafitra misy porous dia mampitombo ny velaran'ny sosona, ka mamorona sakana fiarovana matanjaka kokoa ary mampihena ny mety hisian'ny fiparitahan'ny poti-javatra.
2. Fahamarinan'ny mari-pana avo lenta tsara dia tsara
-Miaraka amin'ny teboka fandrendrehana manakaiky ny 4000°C, dia afaka miasa mandritra ny fotoana maharitra ao anaty atmosfera banga na tsy miasa mihoatra ny 2500°C.
- Mitovy be amin'ny an'ny manjarano ny coefficient fivelaran'ny mafanan'ny coating, ka misoroka ny triatra sy ny fisarahana vokatry ny tsingerin'ny mafana.
3. Fahadiovana avo lenta sy fahalotoana ambany
-Amin'ny fampiasana akora sy dingana manta avy amin'ny semiconductor, dia ambany dia ambany ny votoatin'ny fahalotoan'ny metaly, izay mampihena be ny mety hisian'ny fahalotoan'ny wafer.
- Matevina sy marin-toerana ara-simika ny ety ambonin'ny tany, mampihena ny famokarana poti-javatra ary mahafeno ny fenitra henjana ao amin'ny efitrano madio.
4. Endrika manokana
Azo amboarina araka ny sarin'ny mpanjifa ny endrika sarotra, ary azo fehezina ny porosity sy ny hatevin'ny coating mba hahazoana fikorianan'ny entona sy ny fitondrana hafanana tsara indrindra.
5. Androm-piainana lava sy vidiny mirary
Ny fanoherana avo dia avo ny harafesina sy ny fikikisana amin'ny coatings TaC misy porous dia mampitombo ny androm-piainan'ny singa 3-5 heny raha oharina amin'ny grafita nentim-paharazana, ka mampihena ny fahamaroan'ny fanoloana sy ny fandaniana amin'ny fikojakojana.

Fampiharana fototra
1. Singa fototra amin'ny fanamboarana wafer
- Fonosana efi-trano fandrefesana, baffles, ary lohan'ny douche ho an'ny fitaovana CVD/ALD
- Fanohanana lasibatra PVD
- Singa ao anatin'ny fizotran'ny hafanana avo lenta ho an'ny diffusion, oxidation, annealing, ary dingana hafa
2. Rafitra fametrahana etona simika
- Fiarovana ireo singa fototra ao anatin'ny tontolo mora harafesina be (toy ny fluorida sy klôrida) mandritra ny dingana
3. Tontolo hafa mety harafesina amin'ny mari-pana avo
- Azo ampiasaina amin'ny fanadiovana entona simika, lafaoro fitsaboana hafanana manokana, ary fampiharana hafa.