છિદ્રાળુ ટેન્ટેલમ કાર્બાઇડ કોટેડ ગ્રેફાઇટ રિંગ

છિદ્રાળુ ટેન્ટેલમ કાર્બાઇડ કોટેડ ગ્રેફાઇટ રિંગ
છિદ્રાળુ ટેન્ટેલમ કાર્બાઇડ (TaC) કોટેડ ગ્રેફાઇટઆ એક મુખ્ય સામગ્રી છે જે ખાસ કરીને સેમિકન્ડક્ટર ઉત્પાદનના ઉચ્ચ-તાપમાન, અત્યંત કાટ લાગતા વાતાવરણ માટે વિકસાવવામાં આવી છે. તેનો સબસ્ટ્રેટ ઉચ્ચ-શુદ્ધતા આઇસોસ્ટેટિક ગ્રેફાઇટ છે, જે રાસાયણિક વરાળ નિક્ષેપન (CVD) નો ઉપયોગ કરીને એકસરખા છિદ્રાળુ ટેન્ટેલમ કાર્બાઇડ કોટિંગથી કોટેડ છે. TaC માં અત્યંત ઊંચી કઠિનતા (મોહ્સ સ્કેલ પર 9-10) અને 3880°C નો ગલનબિંદુ છે. ગ્રેફાઇટની ઉત્તમ થર્મલ સ્થિરતા અને હળવા વજનના ગુણધર્મો સાથે, આ સામગ્રી ઉચ્ચ-તાપમાન શક્તિને રાસાયણિક હુમલા અને થર્મલ આંચકા સામે પ્રતિકાર સાથે જોડે છે, જે તેને અત્યંત પરિસ્થિતિઓમાં કાર્યરત સેમિકન્ડક્ટર પ્રક્રિયા સાધનો માટે એક આદર્શ પસંદગી બનાવે છે.

છિદ્રાળુ ટેન્ટેલમ કાર્બાઇડ ગ્રેફાઇટના ફાયદા:
1. અતિ-ઉચ્ચ કાટ પ્રતિકાર
-TaC રાસાયણિક રીતે નિષ્ક્રિય છે, ફ્લોરિન અને ક્લોરિન જેવા હેલોજનથી થતા કાટને અસરકારક રીતે પ્રતિકાર કરે છે, જે સાધનોના જીવનને નોંધપાત્ર રીતે લંબાવે છે.
-છિદ્રાળુ માળખું કોટિંગના સપાટી વિસ્તારને વધારે છે, જે વધુ મજબૂત રક્ષણાત્મક અવરોધ બનાવે છે અને કણોના શેડિંગનું જોખમ ઘટાડે છે.
2. ઉત્તમ ઉચ્ચ-તાપમાન સ્થિરતા
- ગલનબિંદુ 4000°C ની નજીક પહોંચતા, તે શૂન્યાવકાશ અથવા 2500°C થી વધુ તાપમાને નિષ્ક્રિય વાતાવરણમાં લાંબા સમય સુધી કાર્ય કરી શકે છે.
-કોટિંગનો થર્મલ વિસ્તરણ ગુણાંક ગ્રેફાઇટ સાથે ખૂબ જ મેળ ખાય છે, જે થર્મલ સાયકલિંગને કારણે ક્રેકીંગ અને ડિલેમિનેશનને અટકાવે છે.
3. ઉચ્ચ શુદ્ધતા અને ઓછી દૂષણ
-સેમિકન્ડક્ટર-ગ્રેડ કાચા માલ અને પ્રક્રિયાઓનો ઉપયોગ કરીને, ધાતુની અશુદ્ધિનું પ્રમાણ અત્યંત ઓછું હોય છે, જે વેફર દૂષણનું જોખમ નોંધપાત્ર રીતે ઘટાડે છે.
-સપાટી ગાઢ અને રાસાયણિક રીતે સ્થિર છે, જે કણોનું ઉત્પાદન ઘટાડે છે અને કડક સ્વચ્છ ખંડ ધોરણોને પૂર્ણ કરે છે.
4. કસ્ટમ ડિઝાઇન
ગ્રાહકના ચિત્રો અનુસાર જટિલ આકારો બનાવી શકાય છે, અને શ્રેષ્ઠ ગેસ પ્રવાહ અને થર્મલ વાહકતા પ્રાપ્ત કરવા માટે છિદ્રાળુતા અને કોટિંગની જાડાઈને નિયંત્રિત કરી શકાય છે.
5. લાંબુ આયુષ્ય અને ઓછો જાળવણી ખર્ચ
છિદ્રાળુ TaC કોટિંગ્સનો અત્યંત ઊંચો કાટ અને ઘસારો પ્રતિકાર પરંપરાગત ગ્રેફાઇટની તુલનામાં ઘટક જીવનકાળમાં 3-5 ગણો વધારો કરે છે, જેનાથી રિપ્લેસમેન્ટ ફ્રીક્વન્સી અને જાળવણી ખર્ચમાં ઘટાડો થાય છે.

મુખ્ય એપ્લિકેશનો
1. વેફર ઉત્પાદન માટેના મુખ્ય ઘટકો
- CVD/ALD સાધનો માટે રિએક્શન ચેમ્બર લાઇનર્સ, બેફલ્સ અને શાવર-હેડ
- PVD લક્ષ્ય સપોર્ટ કરે છે
- પ્રસરણ, ઓક્સિડેશન, એનેલીંગ અને અન્ય પ્રક્રિયાઓ માટે ઉચ્ચ-તાપમાન પ્રક્રિયા ઘટકો
2. રાસાયણિક વરાળ નિક્ષેપ પ્રણાલીઓ
- પ્રક્રિયા દરમિયાન ખૂબ જ કાટ લાગતા વાતાવરણ (જેમ કે ફ્લોરાઇડ્સ અને ક્લોરાઇડ્સ) માં મુખ્ય ઘટકોનું રક્ષણ કરવું.
3. અન્ય ઉચ્ચ-તાપમાન કાટ લાગતા વાતાવરણ
- રાસાયણિક ગેસ શુદ્ધિકરણ, વિશિષ્ટ ગરમી સારવાર ભઠ્ઠીઓ અને અન્ય એપ્લિકેશનો માટે યોગ્ય.