Porös tantalkarbidbelagd grafitring

Porös tantalkarbidbelagd grafitring
Porös tantalkarbid (TaC) belagd grafitär ett viktigt material som utvecklats specifikt för de högtemperaturiga och mycket korrosiva miljöerna inom halvledartillverkning. Dess substrat är isostatisk grafit med hög renhet, belagd med en jämnt porös tantalkarbidbeläggning med hjälp av kemisk ångavsättning (CVD). TaC har en extremt hög hårdhet (9-10 på Mohs-skalan) och en smältpunkt på 3880 °C. Kombinerat med grafitens utmärkta termiska stabilitet och lätta egenskaper kombinerar detta material högtemperaturstyrka med motståndskraft mot kemiska angrepp och termisk chock, vilket gör det till ett idealiskt val för halvledarprocessutrustning som arbetar under extrema förhållanden.

Fördelar med porös tantalkarbidgrafit:
1. Ultrahög korrosionsbeständighet
-TaC är kemiskt inert och motstår effektivt korrosion från halogener som fluor och klor, vilket avsevärt förlänger utrustningens livslängd.
-Den porösa strukturen ökar beläggningens yta, vilket bildar en mer robust skyddande barriär och minskar risken för partikelavgivning.
2. Utmärkt stabilitet vid höga temperaturer
-Med en smältpunkt som närmar sig 4000 °C kan den arbeta under längre perioder i vakuum eller inerta atmosfärer som överstiger 2500 °C.
-Beläggningens värmeutvidgningskoefficient är i hög grad anpassad till grafitens, vilket förhindrar sprickbildning och delaminering orsakad av termisk cykling.
3. Hög renhet och låg kontaminering
-Med hjälp av råmaterial och processer av halvledarkvalitet är halten av metallföroreningar extremt låg, vilket avsevärt minskar risken för kontaminering av wafers.
-Ytan är tät och kemiskt stabil, vilket minskar partikelgenerering och uppfyller stränga renrumsstandarder.
4. Anpassad design
Komplexa former kan tillverkas enligt kundens ritningar, och porositet och beläggningstjocklek kan kontrolleras för att uppnå optimalt gasflöde och värmeledningsförmåga.
5. Lång livslängd och låg underhållskostnad
Den extremt höga korrosions- och slitstyrkan hos porösa TaC-beläggningar ökar komponenternas livslängd med 3–5 gånger jämfört med traditionell grafit, vilket minskar utbytesfrekvensen och underhållskostnaderna.

Huvudsakliga tillämpningar
1. Kärnkomponenter för wafertillverkning
- Reaktionskammarfoder, bafflar och duschmunstycke för CVD/ALD-utrustning
- PVD-målstöd
- Högtemperaturprocesskomponenter för diffusion, oxidation, glödgning och andra processer
2. Kemiska ångdeponeringssystem
- Skyddar viktiga komponenter i mycket korrosiva miljöer (såsom fluorider och klorider) under processen
3. Andra korrosiva miljöer med hög temperatur
- Lämplig för kemisk gasrening, specialiserade värmebehandlingsugnar och andra tillämpningar.